[发明专利]一种反应等离子喷涂制备纳米晶TiVN涂层的方法

权利要求书

1.一种反应等离子喷涂制备纳米晶TiVN涂层的方法，其特征为该方法包括以下步骤：

(1) 将Ti粉、V粉混合后得到混合粉料；

其中，Ti粉、V粉的粒度为200-500目；Ti粉的质量为混合粉料的质量的65%-80%；

（2）将加入到球磨罐中，抽取真空并进行密封处理；充入氩气作为情性保护气体，将密封的球罐置于行星球磨机中，转速300~1000r/min下球磨10-12h；待球磨结束后进行过筛处理，得到粒径1-50微米的Ti-V合金化粉末；

（3）对所需涂层基体材料表面进行喷砂处理，随后在喷砂处理后的金属基体材料表面喷涂粘结底层；粘结底层厚度为90-120微米；

（4）采用等离子喷涂的方法，将第二步中球磨得到的Ti-V合金粉末喷涂于上步形成的粘结底层表面，从而制备纳米晶TiVN涂层，涂层厚度为200-500微米；

其中，送粉气为N₂，流量为0.4-0.5L/min，电离气体流量为40-50L/min，电离功率为30Kw-35Kw，电离气体采用H₂或者N₂，喷枪距样品垂直距离为10-15cm，喷涂时间为1-2min。

2.如权利要求1所述的反应等离子喷涂制备纳米晶TiVN涂层的方法，其特征为所述的步骤（2）中球磨罐中的磨球为不锈钢磨球，直径分别为4mm、6mm和10mm三种尺寸，质量比分别为1：4：1，混合粉料与总磨球的质量比为1：8。

3.如权利要求1所述的反应等离子喷涂制备纳米晶TiVN涂层的方法，其特征为步骤（3）所采用的基体材料是金属基体或陶瓷基体。

4.如权利要求1所述的反应等离子喷涂制备纳米晶TiVN涂层的方法，其特征为所喷涂的粘结底层为90wt%Ni-10wt%Al粉末在基体表面沉积形成。