[发明专利]一种超低辐射硅粉的制备装置

权利要求书

1.一种超低辐射硅粉的制备装置，包括第二加工腔（3）与第一加工腔（6），其特征在于：所述第一加工腔（6）顶部的一侧设有入料口（7），所述第一加工腔（6）的顶部设有顶部电机（8），且顶部电机（8）上设有粉碎磙（801），所述第二加工腔（3）背部的顶部设有两组第一电机（1401），且第一电机（1401）上设有第一粉碎轮（14），所述第一电机（1401）的底部设有两组第二电机（1201），且第二电机（1201）上设有第二粉碎轮（12），所述第二电机（1201）的底部设有第三电机（1101），且第三电机（1101）上设有第三粉碎轮（11），所述第三粉碎轮（11）底部设有过滤网（15），所述过滤网（15）的一侧设有回料管（10），且回料管（10）顶部设有回料电机（1001），所述回料电机（1001）上设有提升桨（1002）。

2.根据权利要求1所述的一种超低辐射硅粉的制备装置，其特征在于：所述第二加工腔（3）的正面固定安装有保护罩（4），且保护罩（4）的内部固定安装有变频器（5）。

3.根据权利要求1所述的一种超低辐射硅粉的制备装置，其特征在于：所述第一加工腔（6）的内部均布固定安装有粉碎凸点（601）。

4.根据权利要求1所述的一种超低辐射硅粉的制备装置，其特征在于：所述第二加工腔（3）的底部固定安装有底座（2），且底座（2）的底部固定安装有支撑腿（1）。

5.根据权利要求1所述的一种超低辐射硅粉的制备装置，其特征在于：所述第一粉碎轮（14）底部的两侧固定安装有挡板（13）。

6.根据权利要求1所述的一种超低辐射硅粉的制备装置，其特征在于：所述第二加工腔（3）的底部固定安装有出料口（9），且出料口（9）的底部固定安装有排料软管（901）。