[发明专利]光刻设备及光刻设备的瞳面透过率的检测方法

说明书

本发明提供了一种光刻设备以及光刻设备的瞳面透过率的检测方法。根据具有子光束能量常数的相位掩模版，获取对应的子光束入射能量或者获取子光束的入射能量比值，并且在光刻设备中还集成有检测装置，以利用检测装置可以实现在线获取子光束的出射能量，进而可以得到瞳面透过率的检测结果。即，本发明中的光刻设备集成有瞳面透过率检测功能，从而可以在线执行检测过程，不仅其检测方式便利，并且可有效缩减检测时长。

技术领域

本发明涉及影像传感器技术领域，特别涉及一种光刻设备，以及光刻设备的瞳面透过率的检测方法。

背景技术

随着投影光刻技术的发展，光刻设备的投影光学系统性能逐步提高，目前光刻设备已成功应用于亚微米和深亚微米分辨率的集成电路制造领域。以及，为适应集成电路制造相继突破45nm、32nm和22nm技术节点的工艺要求，光刻设备也必须提高其成像分辨率，而提高成像分辨率的方法之一就是增大光刻设备的物镜系统的数值孔径NA，然而，采用大数值孔径的物镜系统将导致光束对光刻结果的影响变得更为明显。

尤其是，随着超高数值孔径的成像系统的应用工况增多，并且随着物镜其工作时间的增加，不同曝光场点的成像系统的瞳面透过率分布(Pupil TransmittanceDistribution，PTD)会有不同，从而会导致远心、光瞳平衡性等指标恶化。因此，成像系统的瞳面透过率必须能够被检测。

目前，针对光刻设备的瞳面透过率的检测中，通常是在将物镜系统集成到光刻设备的整机之前，利用偏振检测装置单独的在离线状态下执行检测过程。即，由于偏振检测装置有旋转波片部件，其体积较大，从而不能够直接放入光刻设备中，进而使现有的光刻设备无法在线执行瞳面透过率的检测过程。并且，现有的检测方式的测试时间长，不利于频繁的执行瞳面透过率检测。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光刻设备，以解决现有的光刻设备无法实现在线执行瞳面透过率的检测过程，并且检测时长较长的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种光刻设备，包括：

照明系统，用于提供光束；

相位掩模版，用于将由所述照明系统发出的光束拆分为第一级子光束和第二级子光束，并根据所述相位掩模版获取由所述相位掩模版投射出的第一级子光束和第二级子光束的入射能量，或者获取由所述相位掩模版投射出的第二级子光束和第一级子光束的入射能量比值；

物镜系统，用于将从所述相位掩模版投射出的所述第一级子光束和所述第二级子光束投射至光刻设备的运动台上；以及，

检测装置，安装在所述运动台上，用于检测投射至所述运动台上的第一级子光束和第二级子光束的出射能量，以根据所述出射能量和所述入射能量得到所述物镜系统的瞳面透过率；或者，获取第二级子光束和第一级子光束的出射能量比值，并根据所述出射能量比值和所述入射能量比值得到所述物镜系统的瞳面透过率。

可选的，结合如下公式获取所述物镜系统的瞳面透过率：

T＝(E1’/E0’)/(E1/E0)；

其中，T为瞳面透过率；

E0为第一级子光束的入射能量；

E1为第二级子光束的入射能量；

E0’为第一级子光束的出射能量；

E1’为第二级子光束的出射能量。

可选的，所述相位掩模版上具有至少两种掩模图形，所述至少两种掩模图形依次偏转不同的角度，以使所述光束分别经过所述至少两种掩模图形时，投射出的第一级子光束和第二级光束相应的依次偏转不同的角度照射至所述瞳面上。