[发明专利]阵列基板及其制作方法和显示面板的制作方法

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

基板，所述基板包括有效显示区域和标记区域；

对位标记，所述对位标记设置于所述标记区域内；

增厚结构，所述增厚结构设置于所述标记区域内，所述增厚结构在所述基板上的投影为第一投影，所述对位标记在所述基板上的投影为第二投影，所述第一投影覆盖所述第二投影；

显示结构层，所述显示结构层至少位于所述有效显示区域内，所述对位标记和所述增厚结构的厚度之和大于所述显示结构层的厚度，以使所述对位标记可识别；

支撑柱，所述支撑柱位于所述显示结构层上，所述支撑柱的材料为遮光材料。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述显示结构层和所述支撑柱的厚度之和小于等于所述对位标记和所述增厚结构的厚度之和，以使所述对位标记可识别。

优选地，所述增厚结构位于所述对位标记的上方，以减少支撑柱材料层在对位标记上的厚度，使所述对位标记可识别；

优选地，所述增厚结构的形状与所述对位标记的形状相同；

优选地，所述增厚结构的形状包括圆锥状、圆台状或棱台状；

优选地，所述增厚结构的材料为透明材料。

3.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述显示结构层包括：

设置于所述基板上的第一电极，所述对位标记与所述第一电极在同一工艺步骤中形成；

设置于所述第一电极上的像素限定层，所述增厚结构与所述像素限定层在同一工艺步骤中形成；

优选地，所述第一电极的材料包括掺杂银的氧化铟锡、或掺杂银的氧化铟锌、或氧化铟锌或者氧化铟锡；

优选地，所述第一电极为氧化铟锡和银的复合膜层；

优选地，所述像素限定层的材料为透明材料。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述显示结构层还包括像素电路层，所述像素电路层包括栅极、电容的第一极板和第二极板；

所述对位标记与所述栅极在同一步工艺步骤中形成；或，

所述对位标记与所述电容的第一极板在同一步工艺步骤中形成；或，

所述对位标记与所述电容的第二极板在同一步工艺步骤中形成。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述增厚结构为设置于所述对位标记上的吸盘，所述吸盘远离所述基板的一侧凸出于所述支撑柱远离所述基板的一侧；

优选地，所述吸盘为透明真空吸盘；

优选地，所述吸盘包括吸盘本体和位于吸盘上的塞子，所述塞子的材料为热敏材料或光敏材料。

6.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供基板，所述基板包括有效显示区域和标记区域；

在所述基板上制备对位标记，所述对位标记位于所述标记区域内；

在所述基板上制备增厚结构，所述增厚结构设置于所述标记区域内，所述增厚结构在所述基板上的投影为第一投影，所述对位标记在所述基板上的投影为第二投影，所述第一投影覆盖所述第二投影；

在所述基板上制备显示结构层，所述显示结构层至少位于所述有效显示区域内，所述对位标记和所述增厚结构的厚度之和大于所述显示结构层的厚度，以使所述对位标记可识别；

在所述显示结构层上制备支撑柱材料层，根据所述对位标识进行对位，对位后对所述支撑柱材料层图形化形成支撑柱。

7.根据权利要求6所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述基板上制备显示结构层，包括：

在所述基板上制备第一电极材料层，对所述第一电极材料层图形化形成第一电极以及所述对位标记；

在所述第一电极和所述对位标记上制备像素限定材料层，对所述像素限定材料层图形化形成像素限定层以及位于所述对位标记上的所述增厚结构。