[发明专利]用于脉冲激光沉积的装置以及具有基板表面的基板

权利要求书

1.用于脉冲激光沉积的装置和具有基板表面的基板，所述装置包括：

-基板保持器，用于保持基板；

-靶，所述靶布置成面向基板的基板表面；

-速度过滤器，所述速度过滤器布置在基板和靶之间，所述速度过滤器包括旋转体，所述旋转体具有至少一个过滤器通道开口；

-脉冲激光，所述脉冲激光在靶点处朝向靶，用于产生靶材料的等离子体羽流，其中，在靶点处的靶的表面面对基板表面，

其特征在于：

-等离子体孔板，所述等离子体孔板布置在靶和基板之间，所述等离子体孔板具有等离子体通道开口，其中，等离子体通道开口由分割平面分成上游部分和下游部分，所述分割平面垂直于速度过滤器的旋转方向，靶点与所述分割平面一致，且至少在由脉冲激光产生等离子体羽流的时刻，上游部分的表面面积大于下游部分的表面面积。

2.根据权利要求1所述的装置，其中：等离子体通道开口的上游部分的、在速度过滤器的旋转方向上的长度大于等离子体通道开口的下游部分的、在速度过滤器的旋转方向上的长度。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中：等离子体孔板布置在速度过滤器和基板之间。

4.根据前述任意一项权利要求所述的装置，其中：在使用中，产生的等离子体羽流的一部分在分割平面的下游部分侧由等离子体孔板屏蔽。

5.根据权利要求4所述的装置，其中：在使用中，所产生的等离子体羽流在分割平面的下游部分侧比在分割平面的上游部分侧被屏蔽更大的部分。

6.根据前述任意一项权利要求所述的装置，其中：等离子体孔板沿与速度过滤器的旋转方向相反的方向旋转。

7.根据前述任意一项权利要求所述的装置，其中：在靶点处的靶表面平行于基板表面。

8.根据前述任意一项权利要求所述的装置，其中：等离子体通道开口相对于等离子体孔板的径向方向不对称地成形。