[发明专利]含硅多苯基单分子树脂及其光刻胶组合物

权利要求书

1.一种化合物，其特征在于，具有如下式(I)或式(II)的结构：

其中：式(I)中，R₀、R_a1～R_a12相同或不同，各自独立地选自氢原子、羟基、C_1-15烷氧基或-OR_b，所述R_b为具有酸敏感性的基团；式(II)中，R₀、R_b1～R_b18相同或不同，各自独立地选自氢原子，羟基，C_1-15烷氧基或-OR_b，所述R_b为具有酸敏感性的基团；

Rx、Ry和Rz相同或不同，各自独立选自未取代或任选被一个、两个或更多个Rs1取代的如下基团：C_1-15烷基、C_3-20环烷基、C_6-20芳基、5-20元杂芳基、3-20元杂环基、-C_1-15烷基-C_6-20芳基、-C_1-15烷基-5-20元杂芳基；

Rs1选自C_1-8烷基、C_1-8烷氧基、C_3-10环烷基；

其中，在式(I)化合物基团R_a1～R_a12中，或式(II)化合物基团R_b1～R_b18中，至少一个基团为羟基或-OR_b，所述具有酸敏感性的基团为-CR¹-O-R¹、-CO-O-R¹、-CH₂-CO-O-R¹、其中R¹相同或不同，独立地选自未取代或任选被一个、两个或更多个Rs2取代的如下基团：C_1-15烷基，C_3-20环烷基、C_7-20桥环基；的环上任选被一个、两个或更多个Rs2取代；m为1至4的任一整数、表示连接键；

Rs2相同或不同，彼此独立地选自如下基团：C_1-8烷基、C_1-8烷氧基、C_3-10环烷基。

2.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述酸敏感性取代基的结构选自如下：

3.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，Rx、Ry和Rz独立选自如下结构：

其中，表示连接键。

4.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，在式(I)化合物基团R_a1～R_a12中，或式(II)化合物基团R_b1～R_b18中，在每一个苯环上至少一个基团为羟基或-OR_b。

5.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述式(I)所示的化合物选自如下化合物：

或者，所述式(II)所示的化合物选自如下化合物：

其中，PY表示NB表示AD表示

表示连接键。