[发明专利]一种基于偶氮苯类光敏化合物修饰硅基的光敏色谱固定相在审

专利信息
申请号: 201910568733.8 申请日: 2019-06-27
公开(公告)号: CN110339827A 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 李东浩;吴立新;李鑫琦;商海波 申请(专利权)人: 延边大学
主分类号: B01J20/286 分类号: B01J20/286;B01J20/30;B01D15/08;G01N30/92
代理公司: 长春市东师专利事务所 22202 代理人: 张铁生;刘延军
地址: 133002 吉林省延边朝鲜族自*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光敏化合物 偶氮苯类 色谱固定相 光敏 硅基 硅烷化 甲苯 修饰 四甲基二硅氧烷 表面含有羟基 二甲基甲酰胺 三乙氧基硅烷 低温结晶 二乙烯基 分离提纯 烯丙基溴 普适性 氢化钠 重量比 可逆 溶剂 萃取 去除 制备 洗涤 调控
【说明书】:

发明公开了一种基于偶氮苯类光敏化合物修饰硅基的光敏色谱固定相,将偶氮苯类光敏化合物、氢化钠和烯丙基溴加入到N,N‑二甲基甲酰胺中,在60~80℃下反应12~24h;萃取、低温结晶,得中间产物;将中间产物、三乙氧基硅烷和铂(0)‑1,3‑二乙烯基‑1,1,3,3‑四甲基二硅氧烷加到甲苯中,在70~80℃下反应12~24h;反应结束后,去除溶剂、分离提纯,即得硅烷化偶氮苯类光敏化合物;将重量比为1~2:25的硅烷化偶氮苯类光敏化合物和表面含有羟基的硅基,加入到甲苯中,在60~80℃下反应12~24h;离心,洗涤,干燥,得到光敏色谱固定相;有益效果如下:可实现原位可逆调控;制备方法简单,易操作,成本低廉,具有普适性。

技术领域

本发明属于光敏色谱固定相材料技术领域,具体涉及一种基于偶氮苯类光敏化合物修饰硅基的光敏色谱固定相。

背景技术

色谱分离主要基于目标物在固定相和流动相中分配系数差异,在两相间反复多次分配,进而达到分离的目的。因此,根据待分离物质的物理化学性质选择合适极性的固定相是实现目标物高效分离的关键之一。目前,商品化色谱柱(气相毛细管色谱柱、液相色谱柱等)的固定相性质单一,且无法进行极性原位调控,因此,在分离复杂样品时,往往需要两根或多根色谱柱串联,提高样品分离度,使得实验成本增加,操作复杂,应用范围受限。因此,制备极性原位可调的新型色谱固定相具有重要意义,不仅丰富了色谱固定相的种类,还可为开发新型色谱分离技术,推动色谱技术向智能化、微型化和集成化发展开启新的研究思路。

偶氮苯类化合物是通过-N=N-双键将两个芳香环连接而成的光敏化材料,具有良好的耐光性、光响应速度快、超高存储密度等优异特性,一直受到材料、生物探针、光信息存储等领域广泛关注。偶氮苯类化物不仅可以发生顺反式构型转化,而且分子的颜色、分子尺寸、偶极矩、结构、极性等也随之发生改变,如偶氮苯的对位碳原子之间的距离也会随之从9 Å 变成 5.5 Å,相应的偶极距,也从 0 D 变成 3.0 D。同时,光致异构材料可用于修饰多种基质,并能够保持良好的光可控性,使其成为制备智能响应型功能材料的理想选择。但是偶氮苯类光敏化合物用于色谱分离领域的研究鲜有报道。

发明内容

本发明目的是为解决现有色谱固定相性质单一、不可原位调控的问题,而提供一种可原位调控的基于偶氮苯类光敏化合物修饰硅基的光敏色谱固定相。

硅烷化偶氮苯类光敏化合物,它的结构式如下:

其中D为-H、-SH、-NO2、-COOH、-CH3、-CH2CH3、-NH2、-NH(CH3)或-N(CH3)2

一种基于偶氮苯类光敏化合物修饰硅基的光敏色谱固定相,它是由下述方法制备的:

将重量比为 1~2:25 的硅烷化偶氮苯类光敏化合物和表面含有羟基的硅基,加入到甲苯中,在60~80℃下反应12~24h;离心,洗涤,干燥,得到光敏色谱固定相;

所述的表面含有羟基的硅基,是用下述方法制备的:先将硅基进行酸化处理,然后水洗至中性,真空干燥,得到表面含有羟基的硅基;

所述的硅烷化偶氮苯类光敏化合物为权利要求1所述的硅烷化偶氮苯类光敏化合物;

所述的硅烷化偶氮苯类光敏化合物是由下述方法制备:

1)制备中间产物:将偶氮苯类光敏化合物、氢化钠和烯丙基溴按摩尔比为4~6:21~23:14~16的比例,加入到N,N-二甲基甲酰胺中,在60~80℃下反应12~24h;萃取、低温结晶,得中间产物;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于延边大学,未经延边大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910568733.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top