[发明专利]显示装置及偏光结构的制造方法有效
| 申请号： | 201910568528.1 | 申请日： | 2019-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN110174796B | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 粘瀚升;贾立凯;侍育徵;王伟训;周珊霙;吕仁贵 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/00;G02B5/30;G03F7/09 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 宋洋;黄艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示装置 偏光 结构 制造 方法 | ||
1.一种偏光结构的制造方法，包括：
于一基板上形成一第一模具材料层；
于该第一模具材料层上形成一硬掩模层，该硬掩模层具有一第一区以及环绕该第一区的一第二区，该第二区的厚度大于该第一区的厚度；
于该硬掩模层上形成一图案化的第一光刻胶材料层；
蚀刻该硬掩模层以及该第一模具材料层，以形成一第一模具；
以该第一模具为母模，形成一第二模具；
于一盖板上形成一反射材料层；
于该反射材料层上形成一第二光刻胶材料层；
将该第二模具的图案转印于该第二光刻胶材料层上，以形成一图案化的第二光刻胶材料层；以及
蚀刻该反射材料层，以形成多条栅线以及环绕所述多条栅线的一反射层。
2.如权利要求1所述的制造方法，其中该硬掩模层的材料包括铝、钛、钼或上述材料的组合。
3.如权利要求1所述的制造方法，其中该第一模具材料层的材料包括二氧化硅。
4.如权利要求1所述的制造方法，其中该硬掩模层包括：
一第一掩模层，位于该第二区中，且具有对应该第一区的一开口；以及
一第二掩模层，覆盖该第一掩模层，且位于该开口中。
5.如权利要求4所述的制造方法，其中该第一掩模层的厚度与该图案化的第一光刻胶材料层的厚度之间的差值小于50纳米，且该第二掩模层的厚度与该图案化的第一光刻胶材料层的厚度之间的差值小于50纳米。
6.如权利要求1所述的制造方法，其中该图案化的第一光刻胶材料层的涂布厚度为该第一模具材料层的厚度的一半。
7.如权利要求1所述的制造方法，其中该图案化的第二光刻胶材料层的涂布厚度为该反射材料层的厚度的一半。
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