[发明专利]一种多离子卸妆水、卸妆湿巾及其制备方法

说明书

本发明提供了一种多离子卸妆水，包括：含钠离子的化合物、含钾离子的化合物、含镁离子的化合物、含硅离子的化合物、含锗离子的化合物及去离子水。此外还提供了含有上述卸妆水的卸妆湿巾以及上述卸妆水的制备方法。尤其是基于多离子成分的卸妆水，纯天然，无有害添加剂、无表面活性剂、无乳化剂、无油溶性试剂、无香精、无防腐剂，所以其温和，健康，无刺激。多离子成分的卸妆液本身无异味，在产品形式上，不添加有害赋形剂，价格实惠，方便携带，是新一代卸妆产品发展的方向。

技术领域

本发明属于化妆品技术领域，具体涉及一种多离子卸妆水、卸妆湿巾及其制备方法。

背景技术

爱美之心，人皆有之。为了美，免不了每天要往脸上涂各种化妆品，如果卸妆不彻底，化妆品残留脸上，会阻塞毛孔，久而久之，脸上的皮肤不但会粗糙，暗沉，还会长小痘痘，甚至会发炎。彻底清洁皮肤，彻底地卸妆，绝对是美容的根本。

卸妆水，卸妆湿纸巾，卸妆油，卸妆泡沫，卸妆啫喱，卸妆乳，卸妆膏，各种各样的传统卸妆产品不胜枚举。其功效性成分无外乎表面活性剂，油溶性试剂(包括天然植物油，合成油脂，硅油，烷烃类化学物质等)，乳化剂，为保证货架期，需要添加防腐剂，为掩盖成分中的不良气味，迎合消费者的喜好，还需要添加香精，此外还有赋形剂等。但是，这些传统卸妆产品中的成分多数是人工合成，甚至是石油化工产业的衍生品，不仅对皮肤有刺激，对人体健康潜在危害，排放时生物降解差，污染环境，而且在生产过程中，不可避免的会有二噁烷﹑环氧乙烷等危害人体健康的禁用物质的残留。同样，传统的卸妆湿巾其功效成分主要是表面活性剂，少量乳化剂以及很少量的油溶性试剂，同样具有危害性。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种多离子卸妆水、卸妆湿巾及其制备方法，尤其是基于多离子成分的卸妆水，纯天然，无有害添加剂、无表面活性剂、无乳化剂、无油溶性试剂、无香精、无防腐剂，所以其温和，健康，无刺激。多离子成分的卸妆液本身无异味，在产品形式上，不添加有害赋形剂，价格实惠，方便携带，是新一代卸妆产品发展的方向。

为了实现上述目的，本发明所采取的技术方案是：一种多离子卸妆水，包括：含钠离子的化合物、含钾离子的化合物、含镁离子的化合物、含硅离子的化合物、含锗离子的化合物及去离子水。

在上述技术方案的基础上，本发明还可以有如下进一步的具体选择或优化选择。

具体的，所述多离子卸妆水的氧化还原电位为负值。具体的，所述多离子卸妆水的氧化还原电位常温(20±10℃)下在-120mV以下。

具体的，所述含钠离子的化合物选自碳酸氢钠或者氢氧化钠中的一种或两种，所述含钾离子的化合物为钾石盐，含镁离子的化合物为氧化镁或碳酸镁，含硅离子的化合物为硅灰石，含锗离子的化合物为氧化锗。

具体的，所述多离子卸妆水含有如下浓度的离子：

优选地，所述多离子卸妆水含有如下浓度的离子：

此外，本发明还提供了制备上述多离子卸妆水的方法，其包括如下步骤：

1)根据各离子的浓度分别称取含硅离子的化合物、含钠离子的化合物和含钾离子的化合物，将所述含硅离子的化合物加入到称量好的去离子水中，搅拌20-30分钟，然后再依次加入含钠离子的化合物和含钾离子的化合物，搅拌下常温反应3-4小时；

2)根据锗离子的浓度称取含锗离子的化合物，加入步骤1)所得离子液中，搅拌下常温反应1小时；

3)根据镁离子的浓度称取含镁离子的化合物，加入步骤2)所得离子液中，搅拌下常温反应1小时，静置24小时，取上清液即得多离子卸妆水。

优选的，步骤1)中的硅离子的化合物进行粉碎预处理。