[发明专利]一种ZnO纳米片及其制备方法

权利要求书

1.一种ZnO纳米片，其特征在于：包括衬底、以及均匀分布在衬底上的ZnO纳米层，所述的ZnO纳米层的厚度在5-20nm，尺寸小于700nm。

2.根据权利要求1所述的ZnO纳米片，其特征在于：所述的衬底为2*2cm-4*4英寸的玻璃、Si、蓝宝石、金属基板。

3.一种用于制备权利要求1或2所述的ZnO纳米片的方法，其特征在于，包括以下步骤：S1)、旋涂溶液的配制，将1.0-2.5g醋酸锌加入到10-50mL的丙二醇中，然后在室温-50℃的条件下采用磁力搅拌30-60min，配制成粘性较好的旋涂溶液；

S2)、清洗衬底，采用乙醇、去离子水超声波清洗衬底5-8次，并采用气枪吹干；

S3)、前驱体薄膜的制备，将清洗干净的衬底吸附在旋涂仪上，在衬底上滴加2滴旋涂溶液，然后使用3000转/分钟的速率旋涂60s，使溶液均匀的铺展在衬底上，在旋涂过程中，每隔15s，滴加1滴旋涂溶液，共滴加3次；之后在电热板上120℃烘干，之后，按相同的方法，反复旋涂2-3次，即可获得前驱体薄膜；

S4)、高温烧结，将制备好的前驱体薄膜转移到退火炉中，以10℃/分钟的速率升温至450-700℃，保温30-60分钟，即可在衬底上获得均匀分布的ZnO纳米片。

4.根据权利要求3所述的ZnO纳米片的方法，其特征在于：步骤S2)中，所述的衬底为玻璃、Si、蓝宝石、金属基板，其尺寸为2*2cm-4*4英寸。

5.根据权利要求3所述的ZnO纳米片的方法，其特征在于：步骤S3)中，旋涂溶液滴加在衬底的中间位置。

6.根据权利要求3所述的ZnO纳米片的方法，其特征在于：步骤S4)中，所述的ZnO纳米片的厚度在5-20nm，尺寸小于700nm。

7.一种利用权利要求3-6所述方法制备的ZnO纳米片的应用，其特征在于：所述的ZnO纳米片主要用于光催化降解、光电探测器、气敏探测器和太阳能电池。