[发明专利]检测光刻掩模的结构的方法和实行该方法的装置

权利要求书

1.一种检测光刻掩模(5)的结构的方法，具有如下步骤：

-在至少一个优选的照明方向(18_i)上用至少部分相干的光源的照明光(1)来照明所述光刻掩模(5)的部分(3)，

-通过在检测平面(8a)中空间分辨地检测从所述照明的部分(3)所衍射的所述照明光(1)的衍射强度来记录所述照明的部分(3)的衍射图像(23)，

-对所述光刻掩模(5)的其他部分重复所述“照明”和“记录”步骤，直到所检测的部分完全覆盖所述光刻掩模(5)的要检测的区域，其中在所述光刻掩模(5)的由此检测的至少两个部分之间各存在重叠区域，所述重叠区域的表面范围的测量值为所述两个部分中较小的部分的至少5％，

-从所述照明的部分的记录的衍射图像计算所述光刻掩模(5)的结构，

-其中所述照明的部分(3)用若干优选的照明方向(18i)来照明，其中在各个情况下记录用这些若干优选的照明方向(18i)所照明的部分(3)的衍射图像(23)。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，使用相干衍射成像(CDI)或叠层成像的方法进行所述光刻掩模(5)的结构的计算。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法包括使用非霍普金斯近似。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在从所述记录的衍射图像(23)计算所述光刻掩模(5)的结构中使用傅里叶变换。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，在从所述记录的衍射图像(23)计算所述光刻掩模(5)的结构中使用迭代傅里叶变换算法(IFTA)。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在从所述记录的衍射图像(23)计算所述光刻掩模(5)的结构中考虑所述光源(6)的相干度。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所述计算中使用所述光刻掩模上的所述照明的部分的测量位置。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述测量通过薄膜发生。

9.一种装置(2)，实行根据权利要求1至8中任一项所述的方法，

-具有光源(6)，以提供所述照明光(1)，

-具有空间分辨检测器(8)，其布置在所述检测平面(8a)中，以在所述衍射图像(23)的记录中检测衍射强度，

-具有掩模夹持器(10)，其是可移动的以便于在所述光刻掩模(5)的要照明的部分之间改变。

10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，至少一个耦合反射镜(21)将所述照明光(1)耦合到反射式光刻掩模(5)的照明的部分上，其中所述检测器(8)布置为使得它接收所述照明的部分(3)反射的衍射图像(23)。

11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，在所述耦合反射镜(21)之前的束路径中的照明光(1)在物平面(4)和所述检测器(8)之间行进。

12.根据权利要求10或11的装置，其特征在于，所述耦合反射镜(21)布置在所述照明光(1)的由所述照明的部分(3)反射的束路径中。

13.根据权利要求9至11中任一项所述的装置，其特征在于，所述照明光(1)在照射在所述照明的部分(3)上之前，被引导在所述检测器(8)的检测表面(20)的部分(20a、20b)之间。

14.根据权利要求9至11中任一项所述的装置，其特征在于，所述掩模夹持器(10)是可倾斜的。

15.根据权利要求9至11中任一项所述的装置，其特征在于，所述光源是基于同步加速器的光源(6)或HHG光源(6)。