[发明专利]具有理想发射谱的柔性被动冷却薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910557029.2 申请日: 2019-06-26
公开(公告)号: CN110320745A 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 高梦宇;郑玉祥;陈良尧;张荣君;王松有;李晶;杨月梅 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;F24F5/00;F24F13/30
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;陆尤
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 制备 冷却薄膜 微结构 紫外纳米压印 辐射冷却 光学常数 发射谱 衬底 能源技术领域 微纳加工技术 紫外固化树脂 卷对卷生产 薄膜表面 光子晶体 降温幅度 目标物体 柔性塑料 宇宙空间 卷对卷 光阻 晴天 户外 辐射 应用
【权利要求书】:

1.一种具有理想发射谱的柔性被动冷却薄膜的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:

(1)研究分析紫外固化树脂的光学常数;

(2)根据步骤(1)中光学常数设计在各个发射角下具有高发射率的光子晶体微结构;

(3)通过微纳加工技术在光阻上制备出步骤(2)中设计的微结构;

(4)通过紫外纳米压印技术将步骤(3)中的微结构制备到柔性衬底上,形成具有该微结构的紫外固化树脂;

步骤(1)中,对紫外固化树脂的光学常数的分析采用红外椭圆偏振仪进行测定,获得紫外固化树脂的psi和delta值,然后通过点对点拟合得到紫外固化树脂的折射率和消光系数;其中,紫外固化树脂的光学常数的分析流程为:

1) 制样:通过电子束热蒸发在玻璃基底上制备厚度为70 - 300 nm的Ag层,在Ag层上面使用旋转涂覆制备厚度为1 - 10 µm的紫外固化树脂;

2) 数据测定:使用红外椭圆偏振仪在入射角为30 - 80°下测定紫外固化树脂的psi和delta值;

3) 光学常数拟合:通过点对点拟合,拟合出紫外固化树脂的光学常数;

步骤(2)中所述对光子晶体微结构的设计软件采用FDTD Solutions,计算在不同入射角下各种微结构的吸收率;根据计算结果,选择最优化的结构参数;所述设计出的光子晶体微结构在0–80°入射角下均具有80%以上吸收率;

光子晶体微结构的设计流程为:

1)物理模型建立:首先设置厚度为10 - 500 µm的紫外固化树脂底层,随后在底层上设置不同形状、高度、周期的图形;

2)光源设置:光源类型为平面波,根据计算需要选择不同的入射角,入射方向为Z轴负方向,TE和TM模式分别计算;

3)边界条件设定:x及y方向为布洛赫边界条件,z方向为PML边界条件;

4)监视器设置:监视器即用来收集计算结果,使用 frequency-domain field andpower 监视器收集反射率及透过率结果,反射率的计算将监视器置于仿真结构的上方;

5)运行;

步骤(3)中所述微纳加工技术为激光直写技术、电子束光刻技术或掩膜板曝光技术;激光直写技术是在光阻上通过激光直写、显影、定影制备出所设计的微结构;并使用聚二甲基硅氧烷复制出与设计结构凹凸相反的微结构模具;其中,微纳加工技术制备微结构的流程为:

1)光阻的制备:用丙酮和乙醇清洗玻璃片,拿出烘干;在洗净的玻璃片上旋转涂覆制备厚度为10 - 300 µm厚的光阻,拿出后放入烘箱1 - 10 min;

2)微结构的制备:以激光直写设备进行加工;通过调整曝光能量、焦距、滤镜、曝光灰度,在上述光阻上进行曝光,通过显影,定影得到所设计的微结构;将聚二甲基硅氧烷与固化剂以(2 – 20):1的质量比混合,将混合液倒在上述具有微结构的衬底上,放入30 – 90℃的烘箱中固化1 - 10 h;将固化的PDMS 剥离,形成与设计结构凹凸相反的透明模具;

3)紫外纳米压印卷对卷制备具有微结构紫外胶的卷料:选取厚度为40 - 200 µm的PET卷料,放卷处加牵引力以保证卷料的平整;在PET一侧滴加紫外固化树脂,并将上述PDMS模具置于紫外固化树脂上;打开波长为300 - 400 nm的紫外灯固化5 - 60 s;收卷处加牵引力保证卷料的平整;

步骤(4)中所述紫外纳米压印技术是用卷对卷方法,在卷对卷生产的过程中加入紫外固化过程;所述紫外固化过程是将上一步中的PDMS模具放置在紫外固化树脂上,打开紫外固化灯固化,然后脱模。

2.根据权利要求1所述的柔性被动冷却薄膜的制备方法,其特征在于,所述紫外固化树脂为环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、纯丙烯酸酯、有机硅低聚物、光固化聚丁二烯低聚物、有机-无机杂化树脂中的一种或一种以上的混合物。

3.根据权利要求1所述的柔性被动冷却薄膜的制备方法,其特征在于,所述柔性衬底选自聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚四氟乙烯、聚氯乙烯各种柔性基底。

4.一种由权利要求1-3之一所述制备方法得到的具有理想发射谱的柔性被动冷却薄膜。

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