[发明专利]用于清洁旋涂仪的碗的夹具和包括其的设备在审
申请号: | 201910547312.7 | 申请日: | 2019-06-24 |
公开(公告)号: | CN110871186A | 公开(公告)日: | 2020-03-10 |
发明(设计)人: | 全炫周;金大城;李承汉;金圣协 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社;细美事有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B13/00 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 姜长星;尹淑梅 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 清洁 旋涂仪 夹具 包括 设备 | ||
公开了一种用于清洁旋涂仪的碗的夹具和包括其的设备。被构造为清洁旋涂仪的碗的夹具包括设置在旋涂仪的旋转卡盘上的基体,基体被构造为通过旋转卡盘进行旋转。该夹具还包括引导构件,引导构件在第一方向上从基体的边缘部分朝向碗的内盖延伸,并且被构造为将喷射到基体的下表面的下清洁剂引导到碗的内盖。碗的内盖被构造为接收光致抗蚀剂并位于旋转卡盘下方。
本申请要求于2018年9月4日在韩国知识产权局(KIPO)提交的第10-2018-0105117号韩国专利申请的优先权,该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。
技术领域
本发明构思涉及一种用于清洁旋涂仪的碗的夹具和一种包括该夹具的用于清洁旋涂仪的碗的设备。更具体地,本发明构思涉及一种用于清洁旋涂仪的碗上的光致抗蚀剂的夹具和一种包括该夹具的用于清洁旋涂仪的碗的设备。
背景技术
通常,旋涂仪可以包括:旋转卡盘,用于支撑基底;喷嘴,设置在旋转卡盘上方以将光致抗蚀剂喷射到基底上;以及碗,被构造为围绕旋转卡盘以收集从基底的表面溢出的光致抗蚀剂。收集在碗中的光致抗蚀剂可以通过碗的排出孔排出。
通常,光致抗蚀剂会残留在碗的内表面上。碗的内表面上的光致抗蚀剂会污染基底。因此,可以周期性地清洁碗以去除光致抗蚀剂。为了清洁碗,可以在旋涂仪停止后将稀释剂喷射到碗以去除光致抗蚀剂。
然而,为了将稀释剂喷射到碗,停止旋涂器使得旋涂仪的运行率会降低。此外,碗的位于旋转卡盘下方的内盖上的光致抗蚀剂的一部分可能不容易被去除。
发明内容
根据本发明构思的示例性实施例,一种被构造为清洁旋涂仪的碗的夹具包括:基体,设置在旋涂仪的旋转卡盘上,基体被构造为通过旋转卡盘进行旋转;以及引导构件,在第一方向上从基体的边缘部分朝向碗的内盖延伸,并且被构造为将喷射到基体的下表面的下清洁剂引导到碗的内盖。碗的内盖被构造为接收光致抗蚀剂并位于旋转卡盘下方。
根据本发明构思的示例性实施例,一种被构造为清洁旋涂仪的碗的夹具包括:基体,设置在旋涂仪的旋转卡盘上,基体被构造为通过旋转卡盘进行旋转;引导构件,在第一方向上从基体的边缘部分朝向碗的内盖延伸,并且被构造为将喷射到基体的下表面的下清洁剂引导到碗的内盖,其中,碗的内盖被构造为接收光致抗蚀剂并位于旋转卡盘下方;下引导板,设置在基体下方并与基体形成下通道,其中,下通道被构造为朝向引导构件引导下清洁剂;以及上引导板,设置在基体上方并与基体形成上通道。上通道被构造为将喷射到基体的上表面的上清洁剂引导到碗的在旋转卡盘的一侧的外盖。
根据本发明构思的示例性实施例,一种被构造为清洁旋涂仪的碗的设备包括:夹具,包括:基体,设置在旋涂仪的旋转卡盘上,基体被构造为通过旋转卡盘进行旋转;以及引导构件,在第一方向上从基体的边缘部分朝向碗的内盖延伸,并且被构造为将喷射到基体的下表面的下清洁剂引导到碗的内盖。碗的内盖被构造为接收光致抗蚀剂并位于旋转卡盘下方。该设备还包括:下喷嘴,设置在基体下方以朝向基体的下表面喷射下清洁剂;以及上喷嘴,设置在基体上方以朝向基体的上表面喷射上清洁剂。
附图说明
通过参照附图对本发明构思的示例性实施例的详细描述,本发明构思的以上和其它特征将变得更明显,在附图中:
图1是示出根据本发明构思的示例性实施例的用于清洁旋涂仪的碗的设备的剖视图;
图2是示出根据本发明构思的示例性实施例的图1中的设备的夹具的放大分解透视图;
图3是根据本发明构思的示例性实施例的图1中的部分III的放大剖视图;
图4是示出根据本发明构思的示例性实施例的用于清洁旋涂仪的碗的设备的剖视图;
图5是示出根据本发明构思的示例性实施例的图4中的设备的夹具的放大分解透视图;以及
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