[发明专利]掩膜框架组件

权利要求书

1.一种掩膜框架组件，其中，包括：

掩膜框架，具有开口；以及

掩膜条，布置于所述掩膜框架上，并且配备有至少一个沿第一方向延伸的第一掩膜条、至少一个沿与第一方向交叉的第二方向延伸的第二掩膜条、与所述第一掩膜条及所述第二掩膜条的各个端部连接而定义多个沉积区域的多个第三掩膜条，

其中，所述第一掩膜条的厚度与所述第二掩膜条的厚度不同，并且在所述第一掩膜条与所述第二掩膜条相互连接的部分布置有部分蚀刻部。

2.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，

所述部分蚀刻部布置于安装所述第二掩膜条的所述第一掩膜条，并且对应于具有比所述第一掩膜条的其他部分的厚度薄的厚度的部分。

3.如权利要求2所述的掩膜框架组件，其中，

所述部分蚀刻部的深度与所述第二掩膜条的厚度相同。

4.如权利要求2所述的掩膜框架组件，其中，

所述部分蚀刻部的间距在第二方向上比所述第一掩膜条的宽度窄。

5.如权利要求2所述的掩膜框架组件，其中，

所述第一掩膜条的厚度比所述第二掩膜条的厚度厚。

6.如权利要求2所述的掩膜框架组件，其中，

所述第二掩膜条的宽度整体上相同。

7.如权利要求2所述的掩膜框架组件，其中，

安装于所述部分蚀刻部的所述第二掩膜条的端部宽度比所述第二掩膜条的其他部分的宽度宽。

8.如权利要求2所述的掩膜框架组件，其中，

所述第二掩膜条焊接于所述第一掩膜条，

焊接点沿所述第二掩膜条的边缘布置。

9.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，

所述第一掩膜条包括：

第一条部；以及

第二条部，布置于所述第一条部上，并层叠于所述第一条部，

其中，所述部分蚀刻部布置于所述第二条部与所述第二掩膜条相互连接的部分。

10.如权利要求9所述的掩膜框架组件，其中，

所述第一条部是连接于所述第二掩膜条的条，

所述第二条部是定义多个沉积区域的条，

所述第一条部的厚度比所述第二条部的厚度厚。

11.如权利要求10所述的掩膜框架组件，其中，

所述部分蚀刻部包括：

第一部分蚀刻部，布置于所述第二条部，并具有比所述第二条部的其他部分的厚度薄的厚度；及

第二部分蚀刻部，布置于所述第二掩膜条，并具有比所述第二掩膜条的其他部分的厚度薄的厚度，

其中，所述第一部分蚀刻部和所述第二部分蚀刻部具有相互对应的形状，并在与第一方向及第二方向交叉的第三方向上相互结合。

12.如权利要求11所述的掩膜框架组件，其中，

所述第一部分蚀刻部与所述第二部分蚀刻部相互连接的部分的厚度和所述第二条部的其他部分的厚度相同。

13.如权利要求10所述的掩膜框架组件，其中，

所述第二条部的宽度比所述第一条部的宽度宽。

14.如权利要求10所述的掩膜框架组件，其中，

所述第二掩膜条焊接于所述第一条部上，

所述第二条部焊接于所述第二掩膜条上。

15.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，

所述第一掩膜条的两端部分别连接于所述第三掩膜条，

所述第二掩膜条的第一端部连接于所述第一掩膜条，

所述第二掩膜条的第二端部连接于所述第三掩膜条。