[发明专利]一种基于雷索烃的大环纳米交联膜及其制备方法及应用

权利要求书

1.一种基于雷索烃的大环纳米交联膜，其特征在于：以雷索烃MC4RA、对苯二甲酰氯TC和金丝桃素HPC为原料，在商业水系膜或有机膜表面采用界面交联法制备了大环纳米交联二元膜pTC-MC4RA和三元膜pTC-HPC-MC4RA，其构筑单元的化学结构式如下：

纳米交联二元膜pTC-MC4RA的结构式为：

纳米交联三元膜pTC-HPC-MC4RA的结构式为：

2.一种权利要求1所述基于雷索烃的大环纳米交联膜的制备方法，其特征在于二元纳米交联膜pTC-MC4RA的制备过程包括以下步骤：

首先，将交联膜基底浸入一定浓度的雷索烃NaOH水溶液中，一段时间后从溶液中取出晾干备用；然后，室温下将晾干的膜浸入一定浓度的对苯二甲酰氯的正己烷溶液中一段时间；最后，用正己烷反复冲洗制备的膜以除去未反应的底物；利用DMF/DMSO将基底溶解掉，从而得到单纯的交联膜。

3.根据权利要求2所述的基于雷索烃的大环纳米交联膜的制备方法，其特征在于：pTC-MC4RA膜的制备条件为：0.3％(w/v)MC4RA在0.06M的NaOH水溶液中，0.5％(w/v)TC在正己烷溶液中，室温下反应15min。

4.权利要求1所述基于雷索烃的大环纳米交联膜的制备方法，其特征在于：三元纳米交联膜pTC-HPC-MC4RA的制备方法如下：

首先，将交联膜基底浸入一定浓度的雷索烃和少量金丝桃素的NaOH水溶液中，一段时间后从溶液中取出晾干备用；然后，室温下将晾干的膜浸入一定浓度的对苯二甲酰氯的正己烷溶液中一段时间；最后，用正己烷反复冲洗制备的膜以除去未反应的底物，并且干燥备用；利用DMF/DMSO将基底溶解掉，从而得到单纯的交联膜。

5.根据权利要求2或4所述的基于雷索烃的大环纳米交联膜的制备方法，其特征在于：所述的交联膜基底为水系滤膜PES/MCE或机滤膜尼龙6。

6.根据权利要求2或4所述的基于雷索烃的大环纳米交联膜的制备方法，其特征在于：所述的交联膜基底孔径尺寸为450nm。

7.一种权利要求1所述基于雷索烃的大环纳米交联膜的应用，其特征在于：二元纳米交联膜pTC-MC4RA在过滤分离染料中的应用。

8.一种权利要求1所述基于雷索烃的大环纳米交联膜的应用，其特征在于：三元纳米交联膜pTC-HPC-MC4RA在除去饮用水细菌中的应用。

9.如权利要求7或8所述的基于雷索烃的大环纳米交联膜的应用，其特征在于：pTC-MC4RA膜通过键合有机阳离子小分子从而有效地分离染料，pTC-HPC-MC4RA膜通过孔径大小能够有效地过滤大肠杆菌，通过HPC在光照下产生单线态氧的性质杀灭和降解大肠杆菌。