[发明专利]辐射分析方法、装置和计算机可读存储介质

权利要求书

1.一种辐射分析方法，包括：

采用预定数量的射线模拟扫描预定物体；

获取从所述预定物体出射的散射射线在各个次级面源的分布信息，其中，所述预定物体的表面划分为多个次级面源；

将各个所述次级面源作为射线源，基于蒙特卡罗方法确定所述散射射线的辐射剂量分布情况；

还包括：

通过以下方式中的至少一种将所述预定物体的表面划分为多个所述次级面源：

将所述预定物体的每个面划分为一个或多个所述次级面源；

获取从所述预定物体出射的散射射线的分布信息，根据所述散射射线的出射角度划分所述次级面源；或，

根据所述预定物体的表面各个位置的重要性或射线密度中的至少一种确定对应位置划分的次级面源的数量，将所述预定物体的表面划分为多个所述次级面源。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括，在获取从所述预定物体出射的散射射线在各个次级面源的分布信息后：

确定每个所述次级面源的出束粒子数量；

确定各个所述次级面源的出束粒子数量的比例；

基于预定的用于模拟的粒子数量和所述比例，确定各个所述次级面源的用于模拟的出束粒子数量；

所述基于蒙特卡罗方法确定辐射剂量分布情况包括：根据各个所述次级面源的用于模拟的出束粒子数量，基于蒙特卡罗方法确定所述散射射线的分布情况。

3.根据权利要求1或2所述的方法，还包括：

根据所述散射射线的所述辐射剂量分布情况设计辐射屏蔽装备。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述设计辐射屏蔽装备包括：

根据所述散射射线的辐射剂量分布情况和辐射屏蔽材料的屏蔽性能确定辐射屏蔽材料在各个位置的厚度。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述分布信息包括出射位置、出射角度和能谱。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述采用预定数量的射线扫描预定物体的扫描方式为电子计算机断层CT扫描。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述预定物体为厚度大于预定厚度的木块。

8.一种辐射分析装置，包括：

扫描单元，被配置为采用预定第一数量的射线模拟扫描预定物体；

次级源获取单元，被配置为获取从所述预定物体出射的散射射线在各个次级面源的分布信息，其中，所述预定物体的表面划分为多个次级面源；

分析单元，被配置为将各个所述次级面源作为射线源，基于蒙特卡罗方法确定所述散射射线的辐射剂量分布情况；

还包括：次级面源划分单元，被配置为通过以下方式中的至少一种将所述预定物体的表面划分为多个所述次级面源：

将所述预定物体的每个面划分为一个或多个所述次级面源；

获取从所述预定物体出射的散射射线的分布信息，根据所述散射射线的出射角度划分所述次级面源；或，

根据所述预定物体的表面各个位置的重要性或射线密度中的至少一种确定对应位置划分的次级面源的数量，将所述预定物体的表面划分为多个所述次级面源。

9.根据权利要求8所述的装置，还包括，

粒子数量调节单元，被配置为根据所述次级源获取单元获取的所述分布信息：确定每个所述次级面源的出束粒子数量；确定各个所述次级面源的出束粒子数量的比例；基于预定的用于模拟的粒子数量和所述比例，确定各个所述次级面源的用于模拟的出束粒子数量；

所述分析单元被配置为根据各个所述次级面源的用于模拟的出束粒子数量，基于蒙特卡罗方法确定所述散射射线的辐射剂量分布情况。

10.根据权利要求8或9所述的装置，还包括：

屏蔽设计单元，被配置为根据所述散射射线的所述辐射剂量分布情况设计辐射屏蔽装备。