[发明专利]一种仿叶绿素的酞菁化合物在审

专利信息
申请号: 201910539772.5 申请日: 2019-06-21
公开(公告)号: CN110156799A 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 刘珩;许浩;廖伟逸;曾朝阳;胡江华;渠立永;朱立岩;王苏红;鲁川杨;田军;扈佃海 申请(专利权)人: 中国人民解放军陆军工程大学
主分类号: C07D487/22 分类号: C07D487/22
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 屠佳婕
地址: 210007 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 叶绿素 酞菁化合物 催化合成 能级差 光谱 合成酞菁化合物 单层平面结构 合成金属酞菁 周期过渡金属 邻苯二甲腈 氮杂双环 分子碎片 峰值波长 峰值展宽 加热条件 金属模板 能级跃迁 物产物产 吸收波长 有机溶剂 金属盐 有机碱 轨道 红移 减小 蓝移 酞菁 催化剂 化合 合成 包围 阻碍
【说明书】:

发明公开一种仿叶绿素的酞菁化合物,包括通过能级跃迁公式其中ΔE、λ分别为轨道能级差和吸收波长,围绕峰值波长减小、轨道能级差增大为目标,设计以第四周期过渡金属为中心、β‑NO2取代的单层平面结构,采用DBU催化合成法合成酞菁化合物。DBU催化合成法在加热条件下,以DBU(有机碱1,8‑二氮杂双环[5,4,0]‑7‑十一烯)为催化剂,邻苯二甲腈与金属盐在有机溶剂中进行反应,分子碎片包围金属模板合成金属酞菁,本发明合成的酞菁化合物产物产率可达到80%,纯度高,分子间聚集明显,Q带峰值展宽,光谱红移;温度升高,分散程度高,阻碍分子间聚集,有利于光谱蓝移。

技术领域

本发明涉及化工技术领域,特别是涉及一种仿叶绿素的酞菁化合物。

背景技术

酞菁具有很强的配位能力,中心及周边位置可进行金属离子、取代基团置换或取代,分子结构变化导致前线分子轨道(HOMO-LUMO)能级改变,形成光谱性能可调的酞菁化合物。在有机染(颜)料、太阳能电池材料等领域具有重要的应用和潜在应用价值。酞菁合成一般以金属离子为模板,酞菁分子碎片(邻苯二甲腈等)在一定的反应条件下环绕模板形成具有特定性能的酞菁化合物。为有效对抗高、超光谱成像侦察威胁,实现迷彩绿色涂料与植物的“同谱同色”,本发明基于酞菁与叶绿素卟啉结构的相似性,开展酞菁化合物合成的研究。

发明内容

本发明为解决目前背景技术中存在的缺点,提供了一种仿叶绿素的酞菁化合物,包括通过能级跃迁公式其中ΔE、λ分别为轨道能级差和吸收波长,围绕峰值波长减小、轨道能级差增大为目标,设计以第四周期过渡金属为中心、β-NO2取代的单层平面结构,采用DBU催化合成法合成酞菁化合物。

对发明的进一步描述,所述DBU催化合成法在加热条件下,以DBU(有机碱1,8-二氮杂双环[5,4,0]-7-十一烯)为催化剂,邻苯二甲腈与金属盐在有机溶剂中进行反应,分子碎片包围金属模板合成金属酞菁,该方法反应温度低,副产物少。

对本发明的进一步描述,所述DBU催化合成法在220~240℃下反应20~30min。

采用上述技术方案,具有如下有益效果:

本发明合成的酞菁化合物产物产率可达到80%,产物的吸收光谱符合酞菁化合物Q带(600nm~800nm)吸收特征,产物纯度、分散状态、温度影响酞菁分子聚集状态,导致反射光谱较吸收光谱产生变化。纯度高,分子间聚集明显,Q带峰值展宽,光谱红移;温度升高,分散程度高,阻碍分子间聚集,有利于光谱蓝移。

附图说明

图1为本发明的金属酞菁DBU催化合成原理示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明做进一步说明。

实施例1:如图1所示的仿叶绿素的酞菁化合物的合成原理示意图,包括通过能级跃迁公式其中ΔE、λ分别为轨道能级差和吸收波长,围绕峰值波长减小、轨道能级差增大为目标,设计以第四周期过渡金属为中心、β-NO2取代的单层平面结构,采用DBU催化合成法合成酞菁化合物,所述DBU催化合成法在加热条件下,以DBU(有机碱1,8-二氮杂双环[5,4,0]-7-十一烯)为催化剂,邻苯二甲腈与金属盐在有机溶剂中进行反应,分子碎片包围金属模板合成金属酞菁,该方法反应温度低,副产物少,所述DBU催化合成法在220~240℃下反应20~30min。

本发明合成的酞菁化合物产物产率可达到80%,产物的吸收光谱符合酞菁化合物Q带(600nm~800nm)吸收特征,产物纯度、分散状态、温度影响酞菁分子聚集状态,导致反射光谱较吸收光谱产生变化。纯度高,分子间聚集明显,Q带峰值展宽,光谱红移;温度升高,分散程度高,阻碍分子间聚集,有利于光谱蓝移。

以上描述了本发明的基本原理和主要特征,本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内,发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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