[发明专利]一种过氧化物拟酶用高分子纳米材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910538868.X 申请日: 2019-06-20
公开(公告)号: CN110343247B 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 雍媛;华玉胜;赵志刚 申请(专利权)人: 西南民族大学
主分类号: C08G73/06 分类号: C08G73/06;C08K3/16;A61K41/00;A61P31/04;B82Y30/00
代理公司: 成都东恒知盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51304 代理人: 罗江
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 过氧化物 拟酶用 高分子 纳米 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种过氧化物拟酶用高分子纳米材料在制备抗菌材料中的应用,其特征在于,所述过氧化物拟酶用高分子纳米材料主要包括以下重量份数的原料组分:32~50份三氯化铁和10~12份3,4-二氨基吡啶;

所述过氧化物拟酶用高分子纳米材料的制备方法包括以下制备步骤:

(1)使用三氯化铁晶体和水,配制三氯化铁的水溶液;

(2)将三氯化铁水溶液与3,4-二氨基吡啶混合,形成混合溶液,反应,除杂;

(3)对步骤(2)所得物质进行指标检测;

所述过氧化物拟酶用高分子纳米材料在近红外光的照射下,催化过氧化氢产生活性氧物质,达到杀菌效果。

2.根据权利要求1所述的一种过氧化物拟酶用高分子纳米材料在制备抗菌材料中的应用,其特征在于,所述过氧化物拟酶用高分子纳米材料的粒径为5nm~200nm,过氧化物拟酶用高分子纳米材料导电水体系的电势为+10.0mV~+80.0mV,过氧化物拟酶用高分子纳米材料的平均分子量为12.0kDa~25.0kDa,所述3,4-二氨基吡啶为单分子晶体。

3.根据权利要求1所述的一种过氧化物拟酶用高分子纳米材料在制备抗菌材料中的应用,其特征在于,过氧化物拟酶用高分子纳米材料的平均分子量为 12.0kDa-18.0kDa。

4.根据权利要求1所述的一种过氧化物拟酶用高分子纳米材料在制备抗菌材料中的应用,其特征在于,制备方法主要包括以下制备步骤:

(1)将三氯化铁晶体和水混合,配制三氯化铁的水溶液;

(2)将三氯化铁水溶液与3,4-二氨基吡啶混合,形成混合溶液,然后在搅拌加热至37℃的条件下反应24小时,再将反应溶液置于分子量为12.0kDa的透析袋中透析24小时;

(3)对步骤(2)所得物质进行指标检测。

5.根据权利要求4所述的一种过氧化物拟酶用高分子纳米材料在制备抗菌材料中的应用,其特征在于,所述三氯化铁与水的摩尔比为0.1~2.0。

6.根据权利要求4所述的一种过氧化物拟酶用高分子纳米材料在制备抗菌材料中的应用,其特征在于,所述三氯化铁与水的摩尔比为0.1~1.0。

7.根据权利要求4所述的一种过氧化物拟酶用高分子纳米材料在制备抗菌材料中的应用,其特征在于,所述三氯化铁与3,4-二氨基吡啶的摩尔比为1.0~20.0。

8.根据权利要求4所述的一种过氧化物拟酶用高分子纳米材料在制备抗菌材料中的应用,其特征在于,所述三氯化铁与3,4-二氨基吡啶的摩尔比为2.0~10.0。

9.根据权利要求1-8任意一项所述的一种过氧化物拟酶用高分子纳米材料在制备抗菌材料中的应用,其特征在于,所述过氧化物拟酶用高分子纳米材料应用于外创伤抗菌治疗。

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