[发明专利]一种物体三维形貌测量方法、系统和计算机可读存储介质有效
申请号: | 201910535206.7 | 申请日: | 2019-06-20 |
公开(公告)号: | CN111102938B | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 李勇;魏一振;张卓鹏 | 申请(专利权)人: | 杭州光粒科技有限公司 |
主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25 |
代理公司: | 杭州华知专利事务所(普通合伙) 33235 | 代理人: | 张德宝 |
地址: | 310012 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 物体 三维 形貌 测量方法 系统 计算机 可读 存储 介质 | ||
1.一种物体三维形貌测量方法,其特征在于,包括:
接收外界阳光,并将其作为测量用的光源;
将所述阳光照射在具有预设图案的模板上,以形成对应的阴影图案;将所述阳光照射在具有预设图案的模板上,还包括:通过至少一个反射镜改变外界阳光的照射路线,并使改变后的阳光照射在具有预设图案的模板上;
将所述阴影图案投影在被测物体上;
拍摄被所述阴影图案投影的被测物体,以得到对应的变形图案;
采用相移法计算得出所述变形图案上变形条纹的相位;采用相移法计算得出所述变形图案上变形条纹的相位,还包括:
通过旋转反射镜使所述阴影图案的条纹发生相移;
结合所述被测物体的纹理和计算得出的相位进行双目匹配,以获取所述被测物体的三维形貌。
2.根据权利要求1所述的一种物体三维形貌测量方法,其特征在于,将所述阴影图案投影在被测物体上,还包括:
通过至少一个反射镜改变所述阴影图案的投影路线,并使改变后的阴影图案投影在所述被测物体上。
3.根据权利要求1或2所述的一种物体三维形貌测量方法,其特征在于,采用相移法计算得出所述变形图案上变形条纹的相位,还包括:
采用傅里叶变换轮廓术求出每幅相移条纹的相位,再对相邻两幅相位作差,计算得出相移量;
根据计算得出的相移量,采用最小二乘法计算得出变形条纹的相位。
4.根据权利要求3所述的一种物体三维形貌测量方法,其特征在于,通过旋转反射镜使所述阴影图案的条纹发生相移,还包括:
通过电控旋转台控制反射镜旋转,并使所述阴影图案的条纹发生相移。
5.根据权利要求1所述的一种物体三维形貌测量方法,其特征在于,所述预设图案为散斑图案、正弦条纹图案、周期性栅栏图案的一种或几种。
6.一种物体三维形貌测量系统,其特征在于,所述物体三维形貌测量系统包括:存储器及处理器,所述存储器中包括一种物体三维形貌测量方法程序,所述物体三维形貌测量方法程序被所述处理器执行时实现如下步骤:
接收外界阳光,并将其作为测量用的光源;
将所述阳光照射在具有预设图案的模板上,以形成对应的阴影图案;
将所述阴影图案投影在被测物体上;
拍摄被所述阴影图案投影的被测物体,以得到对应的变形图案;
采用相移法计算得出所述变形图案上变形条纹的相位;
结合所述被测物体的纹理和计算得出的相位进行双目匹配,以获取所述被测物体的三维形貌。
7.根据权利要求6所述的一种物体三维形貌测量系统,其特征在于,将所述阳光照射在具有预设图案的模板上,还包括:
通过至少一个反射镜改变外界阳光的照射路线,并使改变后的阳光照射在具有预设图案的模板上。
8.根据权利要求7所述的一种物体三维形貌测量系统,其特征在于,采用相移法计算得出所述变形图案上变形条纹的相位,还包括:
通过旋转反射镜使所述阴影图案的条纹发生相移;
采用傅里叶变换轮廓术求出每幅相移条纹的相位,再对相邻两幅相位作差,计算得出相移量;
根据计算得出的相移量,采用最小二乘法计算得出变形条纹的相位。
9.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质中包括一种物体三维形貌测量方法程序,所述物体三维形貌测量方法程序被处理器执行时,实现如权利要求1至5中任一项所述的一种物体三维形貌测量方法的步骤。
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