[发明专利]墨水配方、光电器件及其制备方法

说明书

本发明提供了一种墨水配方、光电器件及其制备方法。该墨水配方包括：第一溶剂、第二溶剂以及功能材料，第一溶剂选自通式为C_nH_2n‑8且9≤n＜15或为C_nH_2n‑6且8≤n＜15的含苯环结构的烃类溶剂，第二溶剂选自通式为C_nH_2n‑8或为C_nH_2n‑6，15≤n≤22的含苯环结构的烃类溶剂，功能材料在第一溶剂中的溶解度大于在第二溶剂中的溶解度。选择上述通式结构和溶解特性的两种溶剂，使得该墨水配方打印到基板上制备成膜层时，在室温或低压或加热状态下进行干燥的过程中，沸点相对较低的第一溶剂先开始慢慢挥发，随着挥发的进行其在第二溶剂和残余第一溶剂中的流动性变差，进而逐渐析出形成均匀的膜层。

技术领域

本发明涉及发光材料溶液领域，具体而言，涉及一种墨水配方、光电器件及其制备方法。

背景技术

溶液法打印制备发光器件时存在咖啡印现象导致膜层不均匀，从而使得发光不均匀。

CN100573965C(专利号200680004962.8)公开了一种空穴注入/传输层的墨水配方，该配方中含有分子内具有芳香环和/或脂环并具有氧原子，且其沸点在200℃以上或25℃时的蒸气压为1托以下的一种或几种溶剂。所选的溶剂沸点较高，蒸气压较低，不易干燥，不容易堵住喷孔，且使得涂布液易于在像素内扩散，具有良好的流平性。但在膜层干燥后，像素内还是有小于20微米的渗出宽度，即像素四周厚度偏厚，中间偏薄，依然没有很好的解决像素内的咖啡印问题。

另有中国专利申请CN102318100A公开了一种液体组合物，该组合物含有熔点低于25℃的芳族酮溶剂，该配方有合适的进行喷墨印刷的粘度和充分润湿ITO表面的能力，因此能较均匀的在像素内填充。但与CN100573965C这篇专利一样，在干燥的过程中会形成像素四周厚度偏厚，中间偏薄的现象。

因此，仍需要对现有技术进行改进，以解决现有溶液法成膜时容易产生膜层不均匀的问题。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种墨水配方、光电器件及其制备方法，以解决现有技术中的溶液法制备发光器件时存在咖啡印现象而导致膜层不均匀的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种墨水配方，该墨水配方包括：第一溶剂，第一溶剂选自通式为C_nH_2n-8且9≤n＜15的或者通式为C_nH_2n-6且8≤n＜15的含苯环结构的烃类溶剂，第二溶剂，第二溶剂选自通式为C_nH_2n-8或者通式为C_nH_2n-6，其中15≤n≤22的含苯环结构的烃类溶剂；以及溶解于第一溶剂和第二溶剂中的功能材料，其中，功能材料在第一溶剂中的溶解度大于在第二溶剂中的溶解度。

进一步地，第一溶剂和第二溶剂各自独立地选自直链或支链溶剂。

进一步地，第一溶剂选自乙基苯、正丙基苯、正丁基苯、正戊基苯、正己基苯、正庚基苯、正辛基苯、苯基环丙烷、苯基环丁烷、苯基环戊烷、苯基环己烷、苯基环庚烷、苯基环辛烷以及它们的同分异构体。

进一步地，第二溶剂选自正壬基苯、正癸基苯、正十一烷基、正十二烷基苯、正十三烷基苯、正十四烷基苯、正十五烷基苯、正十六烷基苯以及它们的同分异构体。

进一步地，功能材料为空穴传输材料；优选地，空穴传输材料为具有空穴传输部位的高分子化合物；更优选地，高分子化合物为含有芳香族叔氨作为骨架结构单元的高分子芳香族胺化合物。

进一步地，第一溶剂中的沸点小于270℃，第二溶剂的沸点大于270℃。