[发明专利]内管调整装置有效
| 申请号: | 201910526342.X | 申请日: | 2019-06-18 |
| 公开(公告)号: | CN110265330B | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
| 发明(设计)人: | 李天涯;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京市一法律师事务所 11654 | 代理人: | 刘荣娟 |
| 地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 调整 装置 | ||
本发明技术方案公开了一种内管调整装置,用于调整炉管机台的内管位置,包括:法兰;设于所述法兰边缘的至少一组滑动轨道,每组滑动轨道包括相对设置的两个滑动轨道;可移动地设于所述滑动轨道上的马达;一端与所述马达连接的运动轴杆;套设于所述内管外的支撑环,所述支撑环的边缘设有与所述运动轴杆联动的支撑耳;以及,控制所述马达转动的控制器。采用本发明技术方案的内管调整装置可以在炉管工作过程中随时调整内管的位置,操作者无需在高温下调整内管的位置,操作简单、安全系数高,且极大程度的提高了晶圆的制造效率,提高了晶圆的均匀性,保证了产品良率。
技术领域
本发明涉及半导体设备技术领域,尤其涉及一种内管调整装置。
背景技术
炉管机台是半导体制造领域的重要设备,在半导体制造过程中,许多需要高温环境的工艺均需在炉管机台内完成,比如晶圆的加工工艺。
而在加工晶圆的过程中,内管极易发生偏移,导致炉管内的反应气体分布不均,从而影响晶圆的均匀性,降低产品良率,甚至可能导致产品报废。
目前,解决内管偏移的方式仍采用人工调整。调整时,需要将炉管机台降温至400℃,用高温手套人为调整内管位置,重新测机,当偏移较为严重时,还需重新做设备维护与保养(PM,preventive maintenance)。人工调整过程需在高温环境下操作,安全系数低,且费时、费力。
发明内容
本发明技术方案要解决的技术问题是现有的炉管机台的内管易发生偏移,影响炉管加工工艺的均匀性。
为解决上述技术问题,本发明技术方案提供一种内管调整装置,用于调整炉管机台的内管位置,包括:法兰;设于所述法兰边缘的至少一组滑动轨道,每组滑动轨道包括相对设置的两个滑动轨道;可移动地设于所述滑动轨道上的马达;一端与所述马达连接的运动轴杆;套设于所述内管外的支撑环,所述支撑环的边缘设有与所述运动轴杆联动的支撑耳;以及,控制所述马达转动的控制器。
可选的,所述法兰内圈设有内管台,所述支撑环放置于所述内管台上。
可选的,所述法兰的边缘垂直分布有两组滑动轨道,且每组滑动轨道中的两个滑动轨道的中心连线经所述法兰的内圆圆心。
可选的,所述运动轴杆的另一端与所述支撑耳可拆卸连接。
可选的,所述支撑耳设有供所述运动轴杆穿入的连接孔,所述运动轴杆平行于所述支撑环。
可选的,所述运动轴杆与所述连接孔螺纹连接。
可选的,所述的内管调整装置还包括定位杆,所述定位杆的一端与所述支撑耳可拆卸连接,另一端为供所述运动轴杆穿过的环状结构,所述定位杆垂直于所述支撑环所在的平面。
可选的,所述支撑耳设有供所述定位杆穿入的定位孔。
可选的,所述定位杆的一端设有支撑所述支撑耳的支撑部。
可选的,所述运动轴杆与所述环状结构螺纹连接。
与现有技术相比,本发明技术方案具有以下有益效果:
本发明技术方案在法兰的边缘设置滑动轨道,滑动轨道上设置马达,马达的运动轴杆与支撑环边缘的支撑耳相联动,通过控制器控制马达的正反转,带动支撑环套设的内管移动,以此调节内管的位置,实现对内管的调整,因此无须在高温下对内管进行人工调整,调节过程简单、易操作,安全系数高。
附图说明
图1为一种炉管机台的结构示意图;
图2为一种内管安装结构的俯视图;
图3为本发明实施例的内管调整装置的俯视结构示意图;
图4为图3所示的内管调整装置中运动轴杆与支撑耳的连接结构示意图;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





