[发明专利]一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质

权利要求书

1.一种光刻设备的控制方法，其特征在于，所述光刻设备包括两个运动台；所述运动台的工作区包括曝光区和非曝光区，所述光刻设备的控制方法包括：

控制一所述运动台在所述曝光区进行第一工序的过程中，控制另一运动台在所述非曝光区进行第二工序，且当所述第一工序完成时，所述非曝光区的运动台运动到所述非曝光区和所述曝光区的交界处，所述第一工序包括曝光；

任一运动台靠近另一运动台的一侧包括基板对准标记，所述运动台承载的物料包括n对物料对准标记；所述n对物料对准标记和所述基板对准标记沿第一方向等间隔依次设置，所述控制另一运动台在所述非曝光区进行第二工序，包括：

控制所述运动台的所述基板对准标记与基板对准标记检出传感器对准后，控制所述运动台沿第一方向分n次向所述曝光区步进运动，其中每次步进过程中所述运动台匀速运动，其中，n≥1。

2.根据权利要求1所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，所述光刻设备包括第一运动台和第二运动台，所述非曝光区包括第一非曝光区和第二非曝光区，所述第一非曝光区、所述曝光区和所述第二非曝光区沿第一方向依次设置；所述第一运动台的工作区包括曝光区和第一非曝光区，所述第二运动台的工作区包括曝光区和第二非曝光区；

所述控制一所述运动台在所述曝光区进行第一工序的过程中，控制另一运动台在所述非曝光区进行第二工序包括：

控制所述第一运动台在所述曝光区进行第一工序的过程中，控制所述第二运动台在所述第二非曝光区进行第二工序。

3.根据权利要求2所述光刻设备的控制方法，其特征在于，所述控制第一运动台在所述曝光区进行第一工序的过程中，控制所述第二运动台在所述第二非曝光区进行第二工序完成之后还包括：

控制所述第二运动台在所述曝光区进行第一工序的过程中，控制所述第一运动台在所述第一非曝光区进行第二工序。

4.根据权利要求1所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，所述第一工序包括依次执行调平调焦、掩模对准和曝光；所述第二工序包括依次执行交接物料和基板对准。

5.根据权利要求4所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，在所述曝光区进行第一工序的运动台调平调焦所使用的时间之和与在所述非曝光区进行第二工序的运动台交接物料所使用的时间相等；

在所述曝光区进行第一工序的运动台掩膜对准和曝光所使用的时间之和与在所述非曝光区进行第二工序的运动台的基板对准所使用的时间相等。

6.根据权利要求4所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，所述光刻设备包括所述基板对准标记检出传感器，所述基板对准标记检出传感器设置在所述非曝光区，在第一方向上，所述基板对准标记检出传感器与所述曝光区和所述非曝光区边界的距离大于或者等于所述运动台在第一方向上的长度。

7.根据权利要求6所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，在第一方向上，所述基板对准标记检出传感器与所述曝光区和所述非曝光区边界的距离等于所述运动台在第一方向上的长度。

8.根据权利要求2所述的光刻设备的控制方法，其特征在于，光刻设备还包括沿第一方向设置的承载所述第一运动台和所述第二运动台的导轨，所述导轨与所述第一运动台之间包括第一运动滑块，所述导轨与所述第二运动台之间包括第二运动滑块，所述第一运动滑块靠近所述第二运动台的一侧或所述第二运动滑块靠近所述第一运动台的一侧设有距离传感器，所述光刻设备的控制方法还包括：

在所述距离传感器检测到所述第一运动台和所述第二运动台之间的距离小于预设距离阈值时，控制所述第一运动台和/或所述第二运动台停止运动。