[发明专利]一种铟基钎料及其制备方法有效
申请号: | 201910519447.2 | 申请日: | 2019-06-17 |
公开(公告)号: | CN110153589B | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 杨莉;熊义峰;姜伟;卢王张;杨耀;乔健;于帮龙 | 申请(专利权)人: | 常熟理工学院 |
主分类号: | B23K35/26 | 分类号: | B23K35/26;B23K35/30;B23K35/14 |
代理公司: | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 滕诣迪 |
地址: | 215500 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铟基钎 料及 制备 方法 | ||
本发明属于钎焊材料技术领域,更具体的涉及一种铟基钎料及其制备方法。本发明铟基钎料由In、Sn和Ag三组分颗粒构成的通式为In‑Sn‑xAg复合颗粒钎料,其中x代表在铟基钎料中Ag的重量百分比,所述x为20‑70。可调节Ag在In‑Sn‑Ag无铅钎料的含量调节焊点剪切强度,改善了钎料的可靠性;尤其是当Ag含量为50wt%时,抗剪强度达到了22.2MPa。In‑Sn‑Ag无铅钎料可在较低温度下键合,焊点由Cu3(In,Sn)和Ag3In相构成,这两种相熔点均高于600℃,因此能够满足低温键合、高温服役的要求。
技术领域
本发明属于钎焊材料技术领域,更具体的涉及一种铟基钎料及其制备方法。
背景技术
钎焊技术作为一项精密的连接技术,在国防建设和国民经济中发挥着越来越重要的作用,涉及航空、航天、核能、汽车和电子等多个领域,工业界对高温电子器件的需求量在不断增加。与此同时,第三代半导体(宽禁带半导体,如SiC和GaN)具有禁带宽度大、功率消耗低、热导率高等特点,元器件能够承受更高的工作温度,高温应用趋势要求其内部连接在高达300℃的恶劣环境下能持续运行。因此,开发“低温键合,高温服役”的钎料成为亟待解决的问题。
铟基(In)低温钎料具有较低熔点、良好抗疲劳性能、高延展性能及导电性能。因此,这些特殊的特性使In基钎料适用于需要较低工艺温度的温度敏感器件的粘合,如中央处理器芯片之间的连接以及铜散热片、发光二极管和热感应传感器。
低温过渡液相(transient liquid phase,TLP)连接技术因具有低温连接、高温使用的特点,被业界认为是极具应用潜力的高温封装方法,其本质为固-液扩散或反应。因为采用混合颗粒可以极大地提高固液接触面积,进一步加快等温凝固的过程,焊缝厚度不再受扩散速率的限制。而且混合颗粒成分容易控制,便于制备成膏状,提高了通用性和适应性。
现有钎料的熔点都较高,而铟的熔点为156℃,以铟为基体制备的钎料熔点将大大低于传统的锡基钎料;现有的铟基钎料都面临着剪切强度差的问题,已有的铟基钎料如纯In,In3Ag,发现钎料焊点的剪切强度较低,在6~14MPa之间;且焊点中有较多的低熔点化合物(如 In,AgIn2,Ag2In),服役温度低于300℃。通过加入锡和银颗粒,并调整锡和银的含量能有效提高焊点的可靠性。传统钎料制备方法过于繁琐,需要的设备较多。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中的缺陷,提供一种铟基钎料及其制备方法,提供一种制备简易,低熔点且接头强度更高的铟基钎料。本发明通过试验优选键合时间、压力、温度和Ag含量分别为10min、 3Mpa、260℃和50wt%。
根据本发明的第一个方面,本发明提供了一种铟基钎料,所述铟基钎料由In、Sn和Ag三组分颗粒构成的通式为In-Sn-xAg复合颗粒钎料,其中x代表在铟基钎料中Ag的重量百分比,所述x为20-70;例如可以为20wt%、30wt%、40wt%、50wt%、60wt%、70wt%。
优选的,所述x为50;
优选的,所述In、Sn和Ag三组分颗粒中Ag粒径为1~50μm;进一步优选为Ag粒径为1~8μm;其中In与Sn的重量比为1:1。研究中发现,Ag颗粒的粒径会影响焊点的键合时间及剪切性能,如Ag 颗粒大于8μm时,形成全IMC焊点的键合时间将超过60min。且大颗粒之间堆垛产生的原始空隙会大大降低焊点的剪切强度。
根据本发明的另一个方面,本发明提供了一种铟基钎料的制备方法,包括如下步骤:
1)将In、Sn和Ag颗粒使用球磨机充分混合均匀,然后加入松香助焊剂,充分搅拌均匀得In-Sn-Ag钎料膏;
2)将In-Sn-Ag钎料膏均匀涂抹在尺寸为12mm×12mm的下Cu 基板上,将尺寸为10mm×10mm的纯铜板端面抛光作为上基板,并与上基板装配成三明治结构试样;
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