[发明专利]硅片单面制绒与边缘刻蚀用添加剂及其应用

权利要求书

1.硅片单面制绒与边缘刻蚀用添加剂，其特征在于，其各组分的质量百分含量为：

脂肪醇聚氧乙烯醚 4%～7%，

甜菜碱 3%～5%，

马来酸-丙烯酸共聚物 3%～5%，

吐温20 2%～5%，

β-环糊精 1%～2%，

余量为去离子水。

2.硅片单面制绒与边缘刻蚀用刻蚀液，其特征在于，其含有碱溶液和权利要求1所述的添加剂，添加剂与碱溶液的质量比为0.5～3:100；所述碱溶液为1～3wt％的氢氧化钠或氢氧化钾水溶液。

3.硅片单面制绒与边缘刻蚀的方法，其特征在于，利用权利要求2所述的刻蚀液对单面覆有掩膜的硅片进行刻蚀，得到具有单面绒面且边缘绝缘的硅片；所述掩膜为二氧化硅或氮化硅。

4.根据权利要求3所述的硅片单面制绒与边缘刻蚀的方法，其特征在于，其具体步骤包括：

1）制备添加剂：将质量百分含量为4%～7%的脂肪醇聚氧乙烯醚、3%～5%的甜菜碱、3%～5%的马来酸-丙烯酸共聚物、2%～5%的吐温20、1%～2%的β-环糊精加入到余量的水中，混合均匀制得添加剂；

2）制备刻蚀液：将步骤1）制得的添加剂加至碱溶液中，混合均匀制得刻蚀液；添加剂与碱溶液的质量比为0.5～3:100；所述碱溶液为1～3wt％的氢氧化钠或氢氧化钾水溶液；

3）将单面覆有掩膜的硅片浸入步骤2）制得的刻蚀液中进行刻蚀，得到具有单面绒面且边缘绝缘的硅片；刻蚀温度为65～85℃，刻蚀时间为120～700s；所述掩膜为二氧化硅或氮化硅。