[发明专利]一种类Lieb光子晶格布洛赫平带的控制方法有效

专利信息
申请号: 201910510997.8 申请日: 2019-06-13
公开(公告)号: CN110286425B 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 章晓伟;覃亚丽;黄峥;任宏亮 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: G02B1/00 分类号: G02B1/00
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 王利强
地址: 310014 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 种类 lieb 光子 晶格 布洛赫 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种类Lieb光子晶格布洛赫平带的控制方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

1)光诱导产生最小周期单元包含五个格点的Lieb-5晶格,最小周期单元格点的分布呈现一个“L”形,将两种不同周期的四方光子晶格进行叠加,周期之比为3:1,通过设置晶体上的偏压,使之产生自散焦非线性,光诱导形成Lieb-5晶格;

2)将Lieb-5晶格最小周期单元的五个格点根据其所处的空间位置分成两组:位于“L”的拐角处的格点称为中心格点,其余四个格点称为边缘格点;

3)通过调整中心格点和边缘格点的相对强度比值,使中心格点和边缘格点的折射率产生差异,Lieb-5晶格的两条平带在整个布洛赫带结构中的相对位置会发生改变;

所述步骤1)中,Lieb-5晶格的特性如下:

①最小周期单元包含5个格点,且格点分布呈现字母“L”形状;

②邻近元胞之间形成一个闭合的四方环型;

③在紧束缚近似下计算得到的布洛赫带结构中第二条带和第四条带为完全平坦的能带;

所述步骤3)中,中心格点和边缘格点的强度比值为2:3时,不同光强导致中心格点和边缘格点产生折射率差:Δn=1.9×10-5,此时恰好激发Lieb-5晶格的平带模,入射的异相八极光束在传输过程中可以始终保持八峰结构,表现出强局域性。

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