[发明专利]绝缘子不均匀涂污装置及其使用方法

权利要求书

1.一种绝缘子不均匀涂污装置的使用方法，其特征在于，所述绝缘子不均匀涂污装置，包括：

箱体；

绝缘子放置平台，设置在所述箱体内，所述绝缘子放置平台上开设有涂污口，所述绝缘子放置平台上安装有置于所述涂污口内的绝缘子和驱动所述绝缘子旋转180°的驱动机构；

至少一个可移动的喷雾机构，包括壳体以及设置在所述壳体内的喷嘴、进料桶、移动连接件、底座、空压机以及设置喷嘴旁的激光校准器，所述喷嘴设置在所述绝缘子的一侧，进料桶通过管路与所述喷嘴连通，所述空压机设置在管路中，所述底座的一侧与所述壳体的底部连接，所述移动连接件与所述底座连接用于带动所述壳体移动；

操作平台，设置在所述箱体的侧壁上，用于调节绝缘子旋转速度、喷雾机构移动速度以及涂污模式，其中，所述涂污模式包括自动涂污模式和手动涂污模式，当选择自动涂污模式时，喷嘴和绝缘子相互配合完成第一次涂污；当选择手动涂污模式时，喷嘴和绝缘子相互配合通过所述激光校准器对所述绝缘子的下表面进行第二次涂污，其中，二次涂污的污液污秽等级不相同；

所述绝缘子不均匀涂污装置的使用方法，包括如下步骤：

S1、所述喷嘴根据绝缘子的伞裙上表面面积S1、绝缘子的伞裙下表面面积S2、绝缘子柱体表面面积S3及伞裙上表面盐密ρESDD1计算得到所需NaCl质量m1和灰密ρNSDD1计算得到所需硅藻土质量m2，即分别为m1＝ρESDD1*(S1+S2+S3)和m2＝ρNSDD1*(S1+S2+S3)；

S2、选择自动涂污模式，设定喷嘴的移动速度V1与绝缘子旋转速度V2，两者相互配合完成第一次涂污；

S3、所述喷嘴根据绝缘子的伞裙下表面面积S2及伞裙下表面盐密ρESDD2计算得到所需NaCl质量m3和灰密ρNSDD2计算得到所需硅藻土质量m4，即分别为m3＝S2*(ρESDD2-ρESDD1)和m4＝S2*(ρNSDD2-ρNSDD1)；

S4、选择手动涂污模式，调节喷嘴的位置与设定绝缘子旋转速度V3，两者相互配合在通过所述激光校准器对所述绝缘子的下表面进行第二次涂污。

2.根据权利要求1所述的绝缘子不均匀涂污装置的使用方法，其特征在于，所述驱动机构为旋转器。

3.根据权利要求1所述的绝缘子不均匀涂污装置的使用方法，其特征在于，所述驱动机构为翻转机。

4.根据权利要求1所述的绝缘子不均匀涂污装置的使用方法，其特征在于，操作平台包括操作面板和显示屏。

5.根据权利要求1所述的绝缘子不 均匀涂污装置的使用方法，其特征在于，所述箱体的各个侧面安装有玻璃隔板。

6.根据权利要求1所述的绝缘子不均匀涂污装置的使用方法，其特征在于，还包括置于所述箱体内且位于所述涂污口下方的污料处理台。

7.根据权利要求1所述的绝缘子不均匀涂污装置的使用方法，其特征在于，还包括调节所述绝缘子放置平台尺寸的放置台调节器。

8.根据权利要求1所述的绝缘子不均匀涂污装置的使用方法，其特征在于，还包括置于所述箱体内且位于所述涂污口下方的加热干燥装置。