[发明专利]胚饼高精清洗设备及清洗方法

权利要求书

1.一种胚饼高精清洗设备，其特征在于，包括:

机架，用于设置多个清洗主槽；

多个实现不同功能的清洗主槽，相邻排列设置于所述机架上；

输送轨道，设置于所述机架外侧，紧邻所述清洗主槽，用于传输待清洗胚饼；

机械手，设置于机架上方，用于夹持运输待清洗胚饼；

所述清洗主槽包括清洗水溶性物质的涡旋清洗槽，去除胚饼表面水分的脱水清洗槽，用于将剩余无机污染物从胚饼表面剥离的皂化清洗槽，用于清洗胚饼表面的真空超声波清洗槽，以及用于干燥清洗后胚饼的真空干燥槽。

2.如权利要求1所述的胚饼高精清洗设备，其特征在于，所述清洗主槽包括用于执行对应清洗的主槽体，用于临时存储对应的清洗剂或者废液的辅槽，以及循环泵，辅槽通过循环泵连通对应的主槽体，与主槽体进行液体交换。

3.如权利要求1所述的胚饼高精清洗设备，其特征在于，所述机架上依次顺序设置有一个旋涡清洗槽，一个脱水清洗槽和皂化清洗槽，二个真空超声波清洗槽和两个真空干燥槽。

4.如权利要求1-3所述的胚饼高精清洗设备，其特征在于，还包括有蒸馏罐，所述蒸馏罐设置于所述机架上，并连接所述真空干燥槽。

5.一种胚饼高精清洗方法，其特征在于，基于如权利要求1-4任一项所述的胚饼高精清洗设备，包括以下步骤：

皂化清洗，将超声波作用于皂化清洗槽中的胚饼表面的水与环保脱水剂，使其皂化形成乳化液，并将水和无机污染物从胚饼表面带离；

真空超声波碳氢清洗，在真空脱水槽中，使用纯碳氢液去除胚饼表面残留的水分和油污；

真空干燥，向真空干燥槽通入加热后的碳氢蒸汽，提高胚饼表面温度，汽化胚饼表面残留的纯碳氢液，并干燥胚饼表面。

6.如权利要求5所述的胚饼高精清洗设备，其特征在于，在所述皂化清洗步骤之前，还包括：

涡旋超声清洗，采用纯水湿润待清洗胚饼表面，并将超声波对准胚饼初步清洗胚饼表面，初步清洗胚饼表面；

脱水清洗，采用环保脱水剂作用于胚饼表面的水分，将水分从胚饼表面剥离。

7.如权利要求5所述的胚饼高精清洗设备，其特征在于，在所述真空超声波碳氢清洗步骤，包括：

真空超声波碳氢粗清洗，向真空脱水槽中加入纯碳氢液粗略去除胚饼表面残留的水分和油污

真空超声波碳氢精清洗，向真空脱水槽中加入纯碳氢液完全去除胚饼表面残留的水分和油污。

8.如权利要求5所述的胚饼高精清洗设备，其特征在于，所述真空干燥步骤之后，还包括，

碳氢回收，在负压1000Pa的压力下，加热蒸馏罐到碳氢液的沸点，回收碳氢蒸汽冷却后重复使用。

9.如权利要求5-8所述的胚饼高精清洗设备，其特征在于，所述环保脱水剂为GCL-100W4，所述纯碳氢液为环保清洗剂GCL-100。

10.如权利要求6所述的胚饼高精清洗设备，其特征在于，所述涡旋超声清洗，脱水清洗，皂化清洗和真空超声波碳氢清洗步骤的工作温度为40-60℃。