[发明专利]一种蒸镀装置和蒸镀方法

权利要求书

1.一种蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置包括：

镀膜室；

坩埚，设置于所述镀膜室底部，盛装且加热镀膜材料；以及

夹具，设置于所述镀膜室顶部且与所述坩埚相对，夹持待镀膜产品；

其中，所述镀膜室的底部设置有至少一个第一进气孔，所述镀膜室通过第一进气孔通入惰性气体；

所述镀膜室还设置有至少一个排气孔；

所述待镀膜产品和所述坩埚之间区域对应的所述镀膜室侧壁上，设置有至少一对第二进气孔，所述镀膜室通过所述第二进气孔通入惰性气体；每对所述第二进气孔包括第三进气孔和第四进气孔，所述第三进气孔设置在所述镀膜室侧壁的其中一面上，所述第四进气孔设置在所述第三进气孔的相对面上，且所述第三进气孔与所述第四进气孔位于同一水平线上；

每个所述第二进气孔开孔方向与水平线的夹角为锐角，所述第二进气孔开孔方向沿进气方向朝向所述镀膜室的顶部。

2.如权利要求1所述的一种蒸镀装置，其特征在于，所述第一进气孔与所述待镀膜产品在竖直方向上相对置设置。

3.如权利要求1所述的一种蒸镀装置，其特征在于，所述第一进气孔有多个，每个所述第一进气孔之间间隔相等，呈均匀的矩阵排列分布在所述坩埚的四周。

4.如权利要求1所述的一种蒸镀装置，其特征在于，所述镀膜室侧壁设置有至少一个第二进气孔。

5.如权利要求4所述的一种蒸镀装置，其特征在于，所述第二进气孔设置在所述镀膜室侧壁上的高度，与待镀膜产品和坩埚之间区域对应。

6.如权利要求5所述的一种蒸镀装置，其特征在于，最底部的所述第二进气孔的高度大于或等于坩埚顶部的高度。

7.如权利要求1所述的一种蒸镀装置，其特征在于，所述排气孔设置在所述镀膜室的顶部，所述排气孔与所述第一进气孔相对设置，所述进气孔与所述排气孔之间的惰性气体流动方向，与所述蒸镀材料的运动方向一致。

8.如权利要求7所述的一种蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置还包括回收装置，所述回收装置与所述排气孔连接，对惰性气体进行压缩回收。

9.一种蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置包括：

镀膜室；

坩埚，设置于所述镀膜室底部，盛装且加热镀膜材料；以及

夹具，设置于所述镀膜室顶部且与所述坩埚相对，夹持待镀膜的显示面板的产品；

其中，所述镀膜室的底部设置有多个与所述待镀膜的显示面板的产品相对置设置的第一进气孔，所述镀膜室侧壁上与所述待镀膜的显示面板的产品和所述坩埚之间区域相对应的区域设置有多个第二进气孔，所述镀膜室通过第一进气孔和第二进气孔通入惰性气体，所述镀膜室的顶部设置有多个排气孔；

所述待镀膜产品和所述坩埚之间区域对应的所述镀膜室侧壁上，设置有至少一对第二进气孔，每对所述第二进气孔包括第三进气孔和第四进气孔，所述第三进气孔设置在所述镀膜室侧壁的其中一面上，所述第四进气孔设置在所述第三进气孔的相对面上，且所述第三进气孔与所述第四进气孔位于同一水平线上；

每个所述第二进气孔开孔方向与水平线的夹角为锐角，所述第二进气孔开孔方向沿进气方向朝向所述镀膜室的顶部。

10.一种用于权利要求1至9任意一项所述蒸镀装置的蒸镀方法，其特征在于，包括步骤：

将所述镀膜材料置于所述坩埚内；将所述待镀膜产品夹持于所述夹具上；

持续通过第一进气孔通入所述惰性气体到所述镀膜室内；

加热所述镀膜材料进行蒸镀。