[发明专利]硼氢化物还原稳定体系及酯类还原为醇类的方法

说明书

本发明提供了一种硼氢化物还原稳定体系及酯类还原为醇类的方法。该硼氢化物还原稳定体系包括：硼氢化物还原剂以及稳定硼氢化物还原剂的稳定剂，硼氢化物还原剂为硼氢化钠或硼氢化钾，稳定剂为醇的碱金属盐。通过在现有的硼氢化钠/钾还原剂的基础上增加醇的碱金属盐(比如醇钠或醇钾)，能够使硼氢化钠/钾还原剂在升温情况下保持稳定不分解，一方面使得还原活性维持在较高的状态，减少过量使用的情况；另一方面减少氢气的产生，降低工艺风险。

技术领域

本发明涉及酯类还原领域，具体而言，涉及一种硼氢化物还原稳定体系及酯类还原为醇类的方法。

背景技术

医药化工领域，经常遇到通过连续性反应技术实现酯基还原至醇类化合物的工艺合成技术。还原酯基到相应的醇是有机合成中一类重要的官能团转化的重要合成手段，常用的还原试剂金属氢化物，如四氢铝锂，硼氢化锂，二异丁基氢化铝等。而这一类试剂通常对水敏感，而硼氢化钠则相对水敏感性低，具有工业应用的前景。

但是，硼氢化钠会对部分酯基的还原性不强，通常需要添加路易斯酸来提高硼氢化钠的活性，如LiCl、LiBr、MgCl₂、CaCl₂、ZnCl₂、ZnBr₂、AlCl₃、CoCl₂、NiCl₂以及CeCl₃等。或者需要在加热或回流条件下进行，而硼氢化钠在质子性溶剂中，升高温度会导致硼氢化钠分解。

因此，在采用硼氢化钠作为还原剂将酯类还原为醇类时，目前仍存在以下几方面的问题：

(1)使用质子性溶剂，导致还原剂如硼氢化钠，或四氢铝锂分解，增大还原剂的使用量。

(2)批次(Batch)反应中淬灭过程中，过量的还原剂会产生大量的氢气，工艺安全系数低。

(3)批次还原反应时会导致批次反应过程中产生氢气比较多，规模生产存在较高的工艺风险，批次加料还原剂操作繁琐。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种硼氢化物还原稳定体系及酯类还原为醇类的方法，以解决现有技术中硼氢化钠/钾作为还原剂将酯类还原为醇类时容易分解的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种硼氢化物还原稳定体系，该硼氢化物还原稳定体系包括：硼氢化物还原剂，硼氢化物还原剂为硼氢化钠或硼氢化钾；以及稳定硼氢化物还原剂的稳定剂，稳定剂为醇的碱金属盐。

进一步地，稳定剂为醇的钠盐或钾盐；优选地，稳定剂选自如下任意一种或多种醇的钠盐或钾盐：甲醇、乙醇、丁醇及戊醇；更优选地，丁醇为叔丁醇，戊醇为叔戊醇。

进一步地，硼氢化物还原剂与稳定剂的摩尔比为1.0～5.0:0.001～0.3，优选为1.0～2.0:0.01～0.15，更优选为1.5～2.0:0.01～0.05。

进一步地，硼氢化物还原稳定体系还包括醇溶剂；优选地，醇溶剂选自碳原子数为C1-C5的醇溶剂，更优选醇溶剂为C1-C3的醇溶剂，进一步优选为甲醇溶剂、乙醇溶剂或异丙醇溶剂。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种酯类还原为醇类的方法，该方法包括采用上述任一种硼氢化物还原稳定体系将酯类还原为醇类。

进一步地，酯类具有式(I)所示结构：

其中，R1或R各自独立地为如下任一基团或者取代的基团：烷基、杂烷基、芳基、杂芳基、环烷基、杂环烷基、烷基环烷基、环烷基杂烷基、芳烷基及芳基杂烷基，基团的碳原子个数为1～50，优选为1～20；或者R1与R形成环状结构。