[发明专利]一种基于微纳结构的被动降温系统在审

专利信息
申请号: 201910498394.0 申请日: 2019-06-10
公开(公告)号: CN110206172A 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 詹耀辉;姚凯强;马鸿晨;赵海鹏 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: E04B1/74 分类号: E04B1/74;E04F13/00;E04F13/02
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 代理人: 冯瑞
地址: 215168 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 高反射层 降温系统 微纳结构 衬底层 辐射层 周期性排列 倒T型结构 经济实用 依次设置 膜层 平整
【权利要求书】:

1.一种基于微纳结构的被动降温系统,其特征在于,包括依次设置的衬底层、高反射层和辐射层,所述衬底层和高反射层为平整的膜层,所述辐射层为周期性排列的倒T型结构。

2.如权利要求1所述的基于微纳结构的被动降温系统,其特征在于,所述辐射层包括第一辐射膜层和第二辐射膜层,所述第一辐射膜层和第二辐射膜层皆为周期性排列的倒T型结构,所述第一辐射膜层紧贴高反射层设置,所述第二辐射膜层位于所述第一辐射膜层远离所述高反射层的一侧。

3.如权利要求2所述的基于微纳结构的被动降温系统,其特征在于,所述第二辐射膜层的折射率小于所述第一辐射膜层的折射率,所述第一辐射膜层与第二辐射膜层的折射率之比为1.5-2。

4.如权利要求2所述的基于微纳结构的被动降温系统,其特征在于,所述第一辐射膜层和第二辐射膜层皆在300nm-2500nm波段的光谱吸收率低于5%。

5.如权利要求2所述的基于微纳结构的被动降温系统,其特征在于,所述第一辐射膜层为二氧化硅膜层;所述第二辐射膜层为氮化硅膜层。

6.如权利要求5所述的基于微纳结构的被动降温系统,其特征在于,所述二氧化硅膜层的厚度为0.5um,所述氮化硅膜层的厚度为0.5nm,所述辐射层的周期为2um。

7.如权利要求6所述的基于微纳结构的被动降温系统,其特征在于,所述辐射层的倒T形的凸起高度为2um。

8.如权利要求1所述的基于微纳结构的被动降温系统,其特征在于,所述高反射层为高反射金属膜。

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