[发明专利]一种通过成像法获取涂层双向反射分布函数仿真参数的方法有效

专利信息
申请号: 201910484740.X 申请日: 2019-06-05
公开(公告)号: CN110298082B 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 朱长林;王艳春 申请(专利权)人: 哈尔滨新光光电科技股份有限公司
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150001 黑龙江省*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 通过 成像 获取 涂层 双向 反射 分布 函数 仿真 参数 方法
【权利要求书】:

1.一种通过成像法获取涂层双向反射分布函数仿真参数的方法,其特征在于,包括测量步骤、拟合前计算步骤和拟合步骤,其中,

测量步骤包括:

使表面带有涂层的标准球放置在平行光源下形成阴影;

通过成像设备对标准球进行多次成像,每次成像时记录成像设备、标准球和阴影之间的两两距离;所述成像设备为红外成像设备;

拟合前计算步骤包括:

根据成像设备、标准球和阴影之间的两两距离计算入射光线反方向J与出射光O的夹角的余弦;根据成像设备获取的照片计算圆心的像素位置坐标;计算J在照片平面内的方位角β;计算像圆内每个像素点的宏观法线方向Z的的方位角φ以及Z与O的夹角γ;

拟合步骤包括:

通过以下解析公式对亮度值L进行拟合:

L=L0+L1+L2+L3+L4

得到金属性M、粗糙度R、谱因子F0的拟合结果;

L0为标准球的自发辐射;L1为标准球反射的主光源辐射;L2为标准球反射的拍摄者辐射;L3为标准球反射的固定昏暗背景辐射;L4为标准球到成像设备路径上的空气自发辐射;

L0、L1、L2、L3和L4的计算公式为:

其中B(·)为BRDF的参数化公式;Ta、Tb分别为空气和标准球的记录温度;P(·)为普朗克公式;κ为消光系数;Sab是成像设备到标准球的拍摄距离;C1为遮光因子,开主光源拍摄时C1取1,遮光拍摄时C1取0;A0、A1、A2、A3和A4均为能够通过拟合确定的比例系数。

2.根据权利要求1所述的通过成像法获取涂层双向反射分布函数仿真参数的方法,其特征在于,BRDF的参数化公式的具体形式为:

F(O,H)=F0+(1-F0)2(-5.55473O,H-6.98316O,H)

α=R2

G(I,O,H)=G1(I,H)G2(O,H)

其中M为金属性,用于描述金属型微面元所占比例;R为粗糙度,用于表示表面的粗糙程度;F0为谱因子,用于表征光线垂直入射表面时的反射比率;H为J和O两方向函数的中间平均方向;I为出射光方向。

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