[发明专利]一种基于土壤耕层构建的全膜双垄沟一膜两年用玉米种植方法

说明书

本发明公开了一种基于土壤耕层构建的全膜双垄沟一膜两年用玉米种植方法，涉及农业种植技术领域。本发明包括如下步骤：步骤一：土壤解冻后，施足有机肥和化肥作为基肥；步骤二：深耕打破土壤犁底层、旋耕翻埋肥料、平整地面，旋耕‑起垄覆膜机起垄覆；步骤三：覆膜后在种植沟每隔50cm打渗水孔以便蓄积雨水；步骤五：当温度稳定在10℃‑12℃，持续5天时，在播种沟内点播玉米，株距33‑35cm。本发明能够破除传统全膜双垄沟播玉米农田土壤旋耕导致的犁底层，有利于增加土壤水分入渗、有利于根系生长，同时，地膜一次覆盖两年使用，再减少土壤耕作、揭膜、覆膜等程序，节约生产资料及人工投入成本，实现了地膜减量。

技术领域

本发明属于农业种植技术领域，特别是涉及一种基于土壤耕层构建的全膜双垄沟一膜两年用玉米种植方法。

背景技术

黄土高原半干旱区，集沟垄作集雨于地膜覆盖增温保墒于一体的全膜双垄沟播玉米种植技术具有增产和提高水分利用效率的作用，受产量效益的驱动，玉米连作现象普遍，然而这种简单的重复由于常年的旋耕、无有机肥的投入使得土壤质量变差，可持续生产能力降低，同时，由于这种技术生产投入水平过高，出现只增产不增效的问题，限制农民增收。

因此，通过增施有机肥、深耕土壤，实现打破犁底层与培育土壤质量，通过一膜两年用节约地膜用量、劳动力投入，实现地膜减量与增产增效，创建新型可持续农业全膜双垄沟播玉米生产模式十分迫切。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基于土壤耕层构建的全膜双垄沟一膜两年用玉米种植方法，解决了传统全膜双垄沟播玉米生产模式，生产投入水平过高，出现只增产不增效，限制农民增收的问题。

为解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：

本发明为一种基于土壤耕层构建的全膜双垄沟一膜两年用玉米种植方法，包括如下步骤：

步骤一：土壤解冻后，施有机肥和化肥作为基肥；

步骤二：施肥后，深耕打破土壤犁底层、旋耕翻埋肥料、平整地面，并用旋耕-起垄覆膜机起垄覆膜；

步骤三：覆膜后在种植沟每隔50cm打渗水孔以便蓄积雨水；

步骤四：及时检查地膜覆盖质量，防止大风揭膜和人畜踩踏地膜；

步骤五：当温度稳定在10℃-12℃，持续5天时，在播种沟内点播玉米，株距33-35cm；

步骤六：当季玉米收获后，齐根割掉玉米秸秆，并延垂直于种植行方向均匀摆放秸秆，保护地膜；

步骤七：翌年玉米播种前，移除秸秆，在玉米根茬处追施化肥，两株玉米根茬中央点播玉米种子；

步骤八：玉米收获后，移除秸秆、揭膜、视下茬种植计划对土壤进行耕作处理。

进一步地，所述步骤一中有机肥为腐熟农家肥，每亩地撒施3t，化肥按每亩地纯N13.3kg、纯P₂O₅10kg量进行施肥。

进一步地，所述步骤二中先用深松耕机及时深松土壤，深度35cm-40cm，深松后用旋耕-起垄覆膜机起垄覆膜，其中，大垄宽70cm，高10cm，小垄宽40cm，高15cm。

进一步地，所述步骤七中按纯N200kg/hm²、纯P₂O₅150kg/hm²的施肥量在玉米根茬处用播种枪追施化肥，肥料用磷二铵和尿素，施肥深度10-15cm。

进一步地，所述步骤六中地膜破损处，用土覆盖，冬闲期实施有效管护，防止牲畜破坏。

本发明具有以下有益效果：