[发明专利]磁控溅射靶材和磁控溅射装置有效

专利信息
申请号: 201910483844.9 申请日: 2019-06-05
公开(公告)号: CN110129755B 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 胡小波 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 磁控溅射 装置
【说明书】:

发明提供一种磁控溅射靶材和磁控溅射装置,磁控溅射靶材包括背板、绑定层、导热层和靶材本体;背板内设置有冷却构件;绑定层形成在背板的一侧;导热层形成在绑定层远离背板的一侧,图案化形成导热图案;靶材本体设置在导热层远离绑定层的一侧,且通过未设置导热图案的绑定区绑定在绑定层上。通过形成导热图案,可以更好地将靶材本体的热量传递给背板,再通过背板内的冷却构件将热量带走,从而降低了靶材本体的温度,缓解了靶材本体与背板脱落的现象。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种磁控溅射靶材和磁控溅射装置。

背景技术

目前,磁控溅射进入工业化规模生产应用领域,靶材做为磁控溅射的原料,也得到快速发展。

现有技术中,一块完整的靶材包括靶材本体和背板,二者通过整面的铟绑定在一起,但铟的熔点较低,当靶材温度高于铟的熔点时,有脱靶风险。

因此,现有的靶材存在靶材本体与背板易脱落的技术问题,需要改进。

发明内容

本发明提供一种磁控溅射靶材,以缓解现有的磁控溅射靶材中靶材本体与背板易脱落的技术问题。

为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:

本发明提供一种磁控溅射靶材,包括:

背板,所述背板内设置有冷却构件;

绑定层,形成在所述背板的一侧;

导热层,形成在所述绑定层远离所述背板的一侧,图案化形成导热图案;

靶材本体,设置在所述导热层远离所述绑定层的一侧,且通过未设置所述导热图案的绑定区绑定在所述绑定层上。

在本发明的磁控溅射靶材中,所述导热层材料为石墨烯。

在本发明的磁控溅射靶材中,所述导热图案贯穿所述绑定层,与所述背板接触。

在本发明的磁控溅射靶材中,所述导热图案包括至少一条沿第一方向排列的第一导热条、以及至少一条沿第二方向排列的第二导热条,所述第一导热条和所述第二导热条相交形成网格状。

在本发明的磁控溅射靶材中,相邻所述第一导热条的间距大于或等于所述第一导热条的宽度,相邻所述第二导热条的间距大于或等于所述第二导热条的宽度。

在本发明的磁控溅射靶材中,所述导热图案包括多个第一导热条和多个第二导热条,所述多个第一导热条的宽度相等,所述多个第二导热条的宽度相等。

在本发明的磁控溅射靶材中,所述多个第一导热条等间距设置,所述多个第二导热条等间距设置。

在本发明的磁控溅射靶材中,所述导热图案包括至少一个沿第一方向排列的导热条。

在本发明的磁控溅射靶材中,所述导热图案包括呈阵列设置的多个导热块。

本发明还提供一种磁控溅射装置,用于磁控溅射,包括上述任一项所述的磁控溅射靶材。

本发明的有益效果为:本发明提供一种磁控溅射靶材和磁控溅射装置,磁控溅射靶材包括背板、绑定层、导热层和靶材本体;所述背板内设置有冷却构件;所述绑定层形成在所述背板的一侧;所述导热层形成在所述绑定层远离所述背板的一侧,图案化形成导热图案;所述靶材本体设置在所述导热层远离所述绑定层的一侧,且通过未设置所述导热图案的绑定区绑定在所述绑定层上。通过形成导热图案,可以更好地将靶材本体的热量传递给背板,再通过背板内的冷却构件将热量带走,从而降低了靶材本体的温度,缓解了靶材本体与背板脱落的现象。

附图说明

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