[发明专利]片式元件、其表面处理系统及表面处理工艺

权利要求书

1.一种片式元件，所述片式元件可防止在回流焊工艺中产生位移、墓碑及跳片现象，所述片式元件包括元件本体，以及附着在所述元件本体的、用于与线路板上的焊盘焊接的金属复合层，从内到外所述金属复合层依次包括银或铜层、镍镀层及锡镀层，其特征在于，所述锡镀层的表面具有保护膜层，所述保护膜层的气化温度低于所述回流焊工艺的温度。

2.根据权利要求1所述的片式元件，其特征在于，所述保护膜层的气化温度介于100摄氏度至230摄氏度之间。

3.一种表面处理系统，用于处理片式元件，防止片式元件在回流焊工艺中产生位移、墓碑及跳片现象，其特征在于，所述表面处理系统包括：

用于对片式元件化学清洗、以修复其锡镀层的化学清洗设备；

用于对化学清洗后的片式元件进行水冲洗处理的第一冲洗设备；

用于对水冲洗后的片式元件进行水浸泡的第一浸泡设备；

用于对水浸泡后的片式元件热浸镀成膜的成膜设备；

用于对成膜后的片式元件进行水冲洗的第二冲洗设备；

用于对成膜并冲洗后的片式元件进行水漂洗的漂洗设备；

用于对水漂洗后的片式元件进行酒精浸泡的第二浸泡设备；以及

用于对酒精浸泡后的片式元件进行烘干的烘干设备。

4.根据权利要求3所述的表面处理系统，其特征在于，所述化学清洗设备为超声清洗机。

5.根据权利要求3所述的表面处理系统，其特征在于，所述成膜设备为超声清洗机。

6.根据权利要求3所述的表面处理系统，其特征在于，所述烘干设备的工作温度介于70摄氏度至120摄氏度之间可调。

7.根据权利要求3所述的表面处理系统，其特征在于，所述第一冲洗设备、所述第一浸泡设备、所述第二冲洗设备和所述漂洗设备均包括水槽。

8.一种表面处理工艺，用于处理片式元件，防止片式元件在回流焊工艺中产生位移、墓碑及跳片现象，其特征在于，所述表面处理工艺包括：首先对片式元件化学清洗使其锡镀层修复；接下来用水清洗去除残留的化学清洗液；然后通过热浸镀法在锡镀层的表面形成保护膜层；最后再次清洗并烘干即可。

9.根据权利要求8所述的表面处理工艺，其特征在于，在化学清洗步骤中，使用酸液或碱液，使用超声清洗机，清洗温度控制在47至63摄氏度，清洗时间控制在5至6分钟；在成膜步骤中，使用超声清洗机，温度控制在67至83摄氏度，时间控制在1至2分钟；在烘干步骤中，使用热风炉，温度控制在85至95摄氏度，时间控制在60至120分钟。

10.根据权利要求8所述的表面处理工艺，其特征在于，成膜前的水清洗包括先冲洗0.5至1分钟，然后浸泡1至2分钟；成膜后的清洗包括先用水冲洗0.5至1分钟，再用水漂洗0.5至2分钟，然后用酒精浸泡0.5至2分钟，最后在滴架上放置5至10分钟。