[发明专利]一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置有效
申请号: | 201910478176.0 | 申请日: | 2019-06-03 |
公开(公告)号: | CN110164945B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 赵攀;蒋志亮;王格 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 莎日娜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括有效显示区域、打孔区域以及设置在所述有效显示区域和所述打孔区域之间的临界区域,所述临界区域的显示基板包括:
基底,以及设置在所述基底上的至少一个第一阻挡墙,所述至少一个第一阻挡墙为凸起结构;
所述至少一个第一阻挡墙包括依次层叠设置的第一栅极金属层、第一栅极绝缘层、第二栅极金属层、第二栅极绝缘层以及源漏电极金属层,所述第一栅极金属层比第一栅极绝缘层更靠近所述基底;
所述源漏电极金属层的材料包括层叠设置的第一钛材料层、铝材料层和第二钛材料层,所述第一钛材料层、铝材料层和第二钛材料层共同形成倒梯形结构。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述基底包括:衬底以及设置在所述衬底上的无机膜层。
3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述临界区域的显示基板还包括:
设置在所述基底上、位于所述第一阻挡墙和所述有效显示区域之间的第二阻挡墙,所述第二阻挡墙包括层叠设置的平坦层、第一像素界定层和第一支撑层,所述平坦层比所述第一像素界定层更靠近所述基底,第二阻挡墙的高度高于所述第一阻挡墙的高度。
4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述临界区域的显示基板还包括:
设置在所述基底上、位于所述第二阻挡墙和所述有效显示区域之间的第三阻挡墙,所述第三阻挡墙包括层叠设置的第二像素界定层和第二支撑层,所述第二像素界定层比所述第二支撑层更靠近所述基底,所述第三阻挡墙的高度大于第一阻挡墙的高度,小于等于第二阻挡墙的高度。
5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述临界区域的显示基板还包括:
设置在所述基底和所述第一阻挡墙上的第一功能层,所述第一功能层在被源漏电极金属层断开。
6.一种显示基板的制备方法,其特征在于,所述显示基板包括有效显示区域、打孔区域以及设置在所述有效显示区域和所述打孔区域之间的临界区域,所述制备方法包括:
提供基底;
在所述基底上对应所述临界区域的位置形成至少一个第一阻挡墙,其中,所述至少一个第一阻挡墙为凸起结构;
在所述基底上形成至少一个第一阻挡墙的步骤,包括:
依次在所述基底上形成第一栅极金属层、第一栅极绝缘层、第二栅极金属层、第二栅极绝缘层以及源漏电极金属层,进而得到所述至少一个第一阻挡墙;
所述源漏电极金属层的材料包括层叠设置的第一钛材料层、铝材料层和第二钛材料层,所述第一钛材料层、铝材料层和第二钛材料层共同形成倒梯形结构。
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述提供基底的步骤,包括:
提供衬底;
在所述衬底上形成无机膜材料;
对所述无机膜材料进行刻蚀,得到无机膜层。
8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:
在所述基底上、位于所述第一阻挡墙和所述有效显示区域之间依次形成平坦层、第一像素界定层和第一支撑层,进而得到第二阻挡墙,所述第二阻挡墙的高度大于所述第一阻挡墙的高度。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:
在所述基底上、且位于所述第二阻挡墙和所述有效显示区域之间依次形成第二像素界定层和第二支撑层,进而得到第三阻挡墙,所述第三阻挡墙的高度大于第一阻挡墙的高度,小于等于第二阻挡墙的高度。
10.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:
在所述基底和所述第一阻挡墙上形成第一功能层,所述第一功能层被所述源漏电极金属层断开。
11.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括如权利要求1至5任一项所述的显示基板。
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