[发明专利]一种盐碱障碍耕地肥沃耕层构建方法在审

专利信息
申请号: 201910476775.9 申请日: 2019-06-03
公开(公告)号: CN110073752A 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 汪峰;姚红燕;王丽丽;金树权;陈若霞 申请(专利权)人: 宁波市农业科学研究院
主分类号: A01B79/00 分类号: A01B79/00
代理公司: 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 代理人: 刘凤钦;陈蕾
地址: 315040 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 垄沟 表土 构建 盐碱 土壤改良剂 耕层 排盐 耕作层土壤 顶端齐平 农田耕作 作物长势 植株 耕作层 犁底层 耕地 底端 顶面 填入 开挖 铺设 农田 土壤 种植
【说明书】:

本发明涉及一种盐碱障碍耕地肥沃耕层构建方法,其包括以下步骤:在耕作层上开挖垄沟,该垄沟的底端与犁底层接壤,在该垄沟中填入土壤改良剂,在该土壤改良剂的表面铺设表土且该表土的顶面与垄沟的顶端齐平,该表土为垄沟周围的耕作层土壤,并在表土上种植植株。与现有技术相比,本发明中的构建方法可操作性强,构建速度快,在短期内能实现对障碍盐碱农田耕作层快速高效排盐,排盐效果显著,提高了农田地力和土壤质量,作物长势好,产量和品质均得到较大的提高。

技术领域

本发明涉及土壤改良技术领域,尤其涉及一种盐碱障碍耕地肥沃耕层构建方法。

背景技术

土壤是化肥养分转化、迁移和作物吸收的场所,地力因素(障碍和肥力因素)一方面影响土壤蓄纳和稳定供应养分的能力,另一方面影响微生物活性和根系生长,进而影响养分在土壤-作物系统中的高效循环利用。盐碱土壤是我国最主要的障碍性土壤类型之一,盐碱土最主要的特点是含有较多的水溶性盐和碱,由于盐分大、碱分多,土壤的腐殖物质遭到淋失,土壤结构遭到破坏,表现为湿时黏、干时硬,通气性和透水性不良,严重的会造成作物萎蔫、中毒甚至死亡。因此,盐碱土壤不仅受到盐碱强烈胁迫,而且土壤有机质和养分含量偏低,物理结构较差,保水保肥能力偏弱。盐碱地土壤的这些特点严重限制了作物的生长发育以及产量和品质的提升。

针对土壤水盐运移过程进行有效调控,消减盐碱障碍因子是农田地力提升和盐碱土地资源功能发挥的基础。国内外盐碱地改良利用方法和技术众多,不同的改良措施效果不同,优点与不足并存,目前主要采用的方法有水利工程法、秸秆或地膜覆盖法、生物改良法以及化学改良等。其中,水利工程法是耕地盐碱化改良的常用方法之一,通过铺设暗管将土壤中的盐分随水排走,但缺点是建设和维护成本较高,不能快速提升土壤质量,如:申请号为CN201710043546.9(公开号为CN108337947A)的中国发明专利《盐碱地改良方法》。秸秆或地膜覆盖可明显抑制水分蒸发,提高入渗淋盐效果,防止耕层盐化,但缺点是土壤易返盐,难降解的地膜还会污染环境,如:申请号为CN201710133603.2(公开号为CN106797867A)的中国发明专利《利用秸秆覆盖保湿降盐碱的枸杞栽培方法》。生物改良法效果显著,同时有利于小生境的恢复,但其改良周期过长严重制约了农业发展,如:专利号为CN201710703811.1(公开号为CN107439337A)的中国发明专利《一种盐碱地移栽乔木的方法及盐碱地的造林方法》。通过化学改良法对盐碱地进行处理,如施用有机肥、菌渣和化学改良剂(秸秆、有机肥、沸石、褐煤、磷矿粉)等,对盐碱障碍因子的消减、土壤肥力的提升具有积极作用,但缺点是改良剂的用量大,改良成本较高,如:申请号为CN201711236418.2(公开号为CN108129227A)的中国发明专利《一种改良沙质盐碱地用复混肥及其制备方法》。由上可见,现有的用于盐碱地的改良方法还有待改进。

发明内容

本发明所要解决的第一个技术问题是针对现有技术而提供一种可操作性强、构建速度快的盐碱障碍耕地肥沃耕层构建方法。

本发明所要解决的第二个技术问题是针对现有技术而提供一种排盐速度快、效果好的盐碱障碍耕地肥沃耕层构建方法。

本发明所要解决的第三个技术问题是针对现有技术而提供一种作物长势良好的盐碱障碍耕地肥沃耕层构建方法。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为:一种盐碱障碍耕地肥沃耕层构建方法,其特征在于包括以下步骤:在耕作层上开挖垄沟,该垄沟的底端与犁底层接壤,在该垄沟中填埋土壤改良剂,在该土壤改良剂的表面铺设表土,该表土为垄沟周围的耕作层土壤,并在表土上种植植株。

作为优选,所述土壤改良剂包括农业废弃物,该农业废弃物为秸秆粉碎物、砻糠、食用菌菌渣或粪肥中的一种,或者为秸秆粉碎物、砻糠、食用菌菌渣或粪肥中至少两种以按C/N比混合后的混合物。农业废弃物在分解过程中产生的有机酸可以有效提高了土壤的缓冲能力,调节了土壤pH,从而进一步提高排盐效率。其中,上述C/N比反映堆肥腐熟度,C指有机碳,N指全氮,本发明中该C/N比值范围介于15~20之间。

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