[发明专利]一种自支持膜制备的方法有效
| 申请号: | 201910476295.2 | 申请日: | 2019-06-10 | 
| 公开(公告)号: | CN112062985B | 公开(公告)日: | 2022-10-28 | 
| 发明(设计)人: | 张健夫;孔瑞霞;李江燕;赵江涛;王丹;苏忠民 | 申请(专利权)人: | 长春理工大学 | 
| 主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08L77/04;C08L5/08 | 
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 | 
| 地址: | 130022 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 支持 制备 方法 | ||
本发明提供了一种自支持膜制备的方法,利用层层组装技术制备出可在水下进行粘合的膜材料,通过简单的机械剥离即可得到自支持膜。该自支持膜具有良好的机械稳定性。此外,这种自支持膜的制备过程不需要复杂精密的仪器,可在温和条件下进行操作,简单环保,重现性好,适用于规模化生产。
技术领域
本发明属于膜制备技术领域,具体涉及一种自支持膜制备的方法。
背景技术
随着科学技术的日益发展,人们越来越重视膜材料的研究与应用。近年来,自支持膜由于其不需要复杂的仪器、操作方法较为简单、不受基底束缚等优点吸引了科学家们的目光,成为了一个研究热点。
迄今为止,人们已经发展了多种自支持膜制备的方法。其中一种被广泛使用的方法是牺牲层法,它是将牺牲层引入到固体基底与膜之间,再将牺牲层溶解,从而得到自支膜。常用的方法还有溶去基底法,它是通过直接溶去目标薄膜所依附的固体基底而获得自支持膜。这两种方法对目标薄膜的稳定性要求很高,大大地限制了自支持膜的种类。界面法应用于制备自支持膜时,对自支持膜的种类、组装条件都有很高的选择性,并且无法得到大面积的自支持膜,局限了自支持膜的应用。
本发明所采用的一种自支持膜制备的方法,它可以在温和的条件下实现自支持膜的大面积制备及剥离。
发明内容
为解决现有技术问题,本发明提供了一种自支持膜制备的方法。
本发明有关缩写的中文名称:PBS为磷酸盐缓冲液,EPL为ε-聚赖氨酸,EDC为1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺盐酸盐,HA为透明质酸钠,DA为多巴胺盐酸盐。
本发明提供的一种自支持膜制备的方法,其特征在于,步骤和条件如下:
(1)溶液的制备
PBS缓冲液的制备:常温下,称取71.6g的Na2HPO4·12H2O于1000mL去离子水中,再称取31.2g的NaH2PO4·2H2O于1000mL去离子水中。然后,分别量取12.3mL的Na2HPO4,87.7mL的NaH2PO4混合,所得的溶液pH为6.0,将该溶液记为0.2M PBS。最后,将上述的0.2M PBS缓冲液稀释20倍,得到0.01M的PBS缓冲液,其pH为6.0。
EPL-C溶液的合成:常温下,称取0.1-1g的EPL于50mL的去离子水中,使用1M的NaOH溶液调节溶液的pH为8.5。称取0.04g的3,4-二羟苯基丙酸溶于50mL去离子水中,再加入0.0717g的EDC,搅拌3-10h。将上述两种溶液混合,并用1M HCl溶液调节其pH为7.4,使得溶液在pH为7.4的条件下维持3-10h。
HA-D溶液的合成:常温下,称取0.1-1g的HA溶于100mL的PBS缓冲液,用1M HCl溶液调节其pH为5.0,继续加入0.086g的EDC,搅拌3-10h。称取0.1054g的DA于搅拌好的溶液中,并用1M HCl溶液调节其pH为5.0,使得溶液在pH为5.0的条件下维持3-10h。
(2)基底的处理
本发明中使用玻璃作为制备自支持膜的基底,将玻璃基底用无水乙醇擦拭干净或在去离子水中超声清洗,然后吹干备用。
(3)自支持膜的制备
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