[发明专利]超薄石英玻璃片的制备方法在审

专利信息
申请号: 201910468977.9 申请日: 2019-05-31
公开(公告)号: CN110316970A 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 杜秀蓉;张晓强;孙元成;宋学富;王慧;钟利强;杨晓会 申请(专利权)人: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00;B24B1/00
代理公司: 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 代理人: 刘铁生;孟阿妮
地址: 100024*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 石英玻璃片 酸刻蚀 抛光 精密机械 制备 厚度均匀性 氢氟酸 表面粗糙度Ra 表面粗糙度 碎裂 薄片制备 石英玻璃 研磨 刻蚀 匹配 清洗 加工 协调
【权利要求书】:

1.一种超薄石英玻璃片的制备方法,其特征在于,

联合使用精密机械抛光和酸刻蚀的方法制备超薄石英玻璃片;

所述的超薄石英玻璃片的厚度≤100μm,厚度均匀性为-2μm~2μm,表面粗糙度Ra≤2nm。

2.根据权利要求1所述的超薄石英玻璃片的制备方法,其特征在于,其包括以下步骤:

1)采用精密机械抛光将石英玻璃片研磨、抛光,得第一石英玻璃片;

2)清洗;

3)酸刻蚀,得超薄石英玻璃片。

3.根据权利要求2所述的超薄石英玻璃片的制备方法,其特征在于,所述的步骤1)包括以下步骤:

采用磨料双面研磨石英玻璃片至指定厚度;采用抛光粉双面抛光石英玻璃片,得第一石英玻璃片。

4.根据权利要求3所述的超薄石英玻璃片的制备方法,其特征在于,

所述的磨料选用粒径≤10μm的Al2O3颗粒;所述的抛光粉选用粒径≤100nm的SiO2颗粒。

5.根据权利要求2所述的超薄石英玻璃片的制备方法,其特征在于,

所述的研磨选用球墨铸铁作为研磨介质;所述的抛光选用聚氨酯作为抛光介质。

6.根据权利要求2-5任一项所述的超薄石英玻璃片的制备方法,其特征在于,

所述的第一石英玻璃片的厚度为0.2~0.3mm,厚度均匀性为-5μm~5μm,表面粗糙度Ra≤1nm。

7.根据权利要求6所述的超薄石英玻璃片的制备方法,其特征在于,

所述的清洗包括以下步骤:

采用氢氟酸溶液浸泡第一石英玻璃片;然后再进行超声波清洗。

8.根据权利要求7所述的超薄石英玻璃片的制备方法,其特征在于,

所述的氢氟酸溶液的质量浓度为0.2~1%,浸泡温度为20~30℃,浸泡时间为2min~5min。

9.根据权利要求7所述的超薄石英玻璃片的制备方法,其特征在于,

所述的超声波清洗采用的液体为去离子水,其电阻率≥18MΩ·cm,超声频率为28~45kHz。

10.根据权利要求6所述的超薄石英玻璃片的制备方法,其特征在于,

所述的酸刻蚀采用氢氟酸,其浓度为10~20mol/L;

所述的酸刻蚀的温度为30℃~40℃;

所述的酸刻蚀的速率≤1μm/min。

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