[发明专利]镁表面微弧氧化处理工艺在审
| 申请号： | 201910461428.9 | 申请日： | 2019-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN110042453A | 公开（公告）日： | 2019-07-23 |
| 发明（设计）人： | 于淑媛;陈泽民;张巧云;任萍;张成根 | 申请（专利权）人： | 廊坊师范学院 |
| 主分类号： | C25D11/30 | 分类号： | C25D11/30 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 刘敏 |
| 地址： | 065000 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 微弧氧化处理 镁片 微弧氧化膜 不锈钢片 循环水浴 镁表面 打磨 自来水 阴极 硅酸盐体系 后处理 阳极 表面形态 操作模式 氢氧化钾 甘油 电解槽 电解液 氟化钠 硅酸钠 恒电流 耐蚀性 致密性 定容 添加剂 检测 | ||
1.一种镁表面微弧氧化处理工艺，其特征在于，包括以下步骤：
(1)制备电解液
首先在电解槽中依次加入定量的硅酸钠、氟化钠和氢氧化钾，其次加入适量的自来水搅拌至溶，再次加入甘油和LAP进行搅拌，最后加入自来水定容，充分搅拌均匀即得电解液；
(2)试样处理及微弧氧化
首先对不锈钢片和镁片进行打磨，打磨后对其进行水洗，其次将不锈钢片和镁片分别放置在循环水浴锅中作为阴极和阳极来进行微弧氧化处理，采用恒电流操作模式进行处理，电流密度为1～7A/dm2，处理过程中循环水浴锅内的温度为20-40℃，得到处理后的镁片微弧氧化膜，对其进行后处理及干燥检测。
2.根据权利要求1所述的镁表面微弧氧化处理工艺，其特征在于：所述步骤(1)中硅酸钠的浓度为1.8-9.0g/L，氟化钠的浓度为1.8-4.2g/L，氢氧化钾的浓度为1.2-2.8g/L，甘油的浓度为8-16mL/L，LAP的浓度为0.9-4.5g/L。
3.根据权利要求2所述的镁表面微弧氧化处理工艺，其特征在于：所述步骤(2)中微弧氧化处理使用的微弧氧化装置包括循环水浴锅和电源，所述电源设置在所述循环水浴锅的一侧，所述循环水浴锅的内部设置有不锈钢片阴极、镁片阳极和搅拌器，所述搅拌器、所述镁片阳极和所述不锈钢片阴极均与所述电源连接。
4.根据权利要求3所述的镁表面微弧氧化处理工艺，其特征在于：所述循环水浴锅中设置有温度计，所述循环水浴锅的一侧底部设置有循环水进口，另一侧上部设置有循环水出口。
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