[发明专利]显示基板及其制造方法、显示面板

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：

衬底基板，以及位于所述衬底基板一侧的彩膜层，所述彩膜层的目标面具有散射结构，所述目标面包括相对的第一面和第二面中的至少一面。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述散射结构包括多个凹槽。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述多个凹槽阵列排布在所述目标面上。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括与所述目标面贴合的第一膜层，所述第一膜层的材质与所述彩膜层的材质不同。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述目标面包括靠近所述衬底基板的所述第一面，所述第一膜层包括钝化层，所述显示基板还包括位于所述衬底基板与所述彩膜层之间的缓冲层和薄膜晶体管，所述缓冲层、所述薄膜晶体管与所述钝化层沿远离所述衬底基板的方向依次设置。

6.根据权利要求4或5所述的显示基板，其特征在于，所述目标面包括远离所述衬底基板的所述第二面，所述第一膜层包括平坦层，所述显示基板还包括位于所述衬底基板与所述彩膜层之间的缓冲层和薄膜晶体管，所述缓冲层、所述薄膜晶体管、所述钝化层、所述彩膜层与所述平坦层沿远离所述衬底基板的方向依次设置。

7.一种显示基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板的一侧形成彩膜层，所述彩膜层的目标面具有散射结构，所述目标面包括相对的第一面和第二面中的至少一面。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述提供衬底基板之后，所述方法还包括：

在所述衬底基板上依次形成缓冲层、薄膜晶体管和钝化层；

对所述钝化层的表面进行粗糙化处理；

在所述衬底基板的一侧形成彩膜层，包括：

在表面经过粗糙化处理后的所述钝化层上形成所述彩膜层，以在所述彩膜层靠近所述衬底基板的所述第一面上形成所述散射结构。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其特征在于，在所述提供衬底基板之后，所述方法还包括：

在所述衬底基板上依次形成缓冲层、薄膜晶体管和钝化层；

在所述衬底基板的一侧形成彩膜层，包括：

在所述钝化层远离所述衬底基板的一侧形成所述彩膜层；

对所述彩膜层的表面进行粗糙化处理，以在所述彩膜层远离所述衬底基板的所述第二面上形成所述散射结构；

在所述衬底基板的一侧形成彩膜层之后，所述方法还包括：

在所述彩膜层远离所述衬底基板的一侧形成平坦层。

10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括权利要求1至6任一所述的显示基板。