[发明专利]一种(Hf,Ta,Nb,Ti)B2有效

专利信息
申请号: 201910458660.7 申请日: 2019-05-29
公开(公告)号: CN110204341B 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 褚衍辉;刘达;叶贝琳 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: C04B35/58 分类号: C04B35/58;C04B35/626
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 何淑珍;隆翔鹰
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 hf ta nb ti base sub
【权利要求书】:

1.一种(Hf,Ta,Nb,Ti)B2高熵陶瓷粉体的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1)称取HfO2粉、TiO2粉、Nb2O5粉、Ta2O5粉、B4C粉以及C粉混合作为原料,通过研磨得到混合粉末;

(2)将步骤(1)得到的混合粉末进行烧结,烧结过程中通惰性气体,烧结完成后进行冷却,最终得到所述(Hf,Ta,Nb,Ti)B2高熵陶瓷粉体;

所述步骤(2)中,烧结过程中升温速率为5~10℃/min,烧结温度为1750~1850℃,达到烧结温度后保温1~3h;

所述TiO2粉、HfO2粉、Nb2O5粉、Ta2O5粉的总量与B4C的摩尔比为1:0.8~1:0.93。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,HfO2粉、TiO2粉、Nb2O5粉和Ta2O5粉的纯度均≥99%,TiO2粉的粒径为50~200nm;HfO2粉、Nb2O5粉和Ta2O5粉的粒径均为1~3μm;B4C粉的纯度≥99.9%,粒径为3~5μm;C粉的纯度≥99.9%,粒径为0.7~0.9μm。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,原料中Hf、Ti、Nb和Ta的摩尔比为1:1:1:1,且原料中TiO2粉、HfO2粉、Nb2O5粉和Ta2O5粉的总量与C粉的摩尔比为1:2.33。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中的研磨是将原料置于聚四氟乙烯球磨灌中,并加入ZrO2球磨珠研磨成混合粉末。

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述研磨中所用的球磨珠与原料的质量比为5:1~20:1。

6.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述球磨机的转速为300-500r/min,球磨时间为5~20h。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中,惰性气体为Ar气。

8.权利要求1~7任一项所述制备方法制得的(Hf,Ta,Nb,Ti)B2高熵陶瓷粉体。

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