[发明专利]用于获取纹理操作的采样位置的方法和装置有效
申请号: | 201910456799.8 | 申请日: | 2019-05-29 |
公开(公告)号: | CN110675480B | 公开(公告)日: | 2023-07-04 |
发明(设计)人: | 尤里·乌拉尔斯基;H·P·莫尔顿;埃里克·布雷恩·卢姆;乔纳森·J·迪奈斯卡;史蒂文·詹姆斯·海因里希;斯特凡诺·佩斯卡多尔;瑟利斯·加德雷;米夏埃尔·艾伦·费特曼 | 申请(专利权)人: | 辉达公司 |
主分类号: | G06T15/04 | 分类号: | G06T15/04 |
代理公司: | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人: | 高伟;娄晓丹 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 获取 纹理 操作 采样 位置 方法 装置 | ||
1.一种用于报告纹理占用空间的方法,包括:
从着色器程序接收包括纹理映射坐标的纹理占用空间查询请求,其中所述纹理占用空间查询请求与光栅化的几何形状所覆盖的屏幕空间中的像素相关联;
标识包括用于纹理映射过滤操作的纹理占用空间的纹理像素,其对应于所述纹理占用空间查询请求;以及
向所述着色器程序发送包括所述纹理占用空间的查询结果信息,
其中所述发送包括将所述查询结果信息存储在所述着色器程序可访问的存储器电路中。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述纹理映射坐标包括两个维度。
3.如权利要求1所述的方法,其中所述纹理映射坐标包括三个维度。
4.如权利要求1所述的方法,其中所述纹理映射坐标被配置为标识立方体映射中的位置。
5.如权利要求1所述的方法,其中所述纹理占用空间查询请求进一步包括在每个所述纹理映射坐标处的梯度。
6.如权利要求1所述的方法,其中所述纹理占用空间查询请求进一步包括与所述纹理占用空间相对应的详细参数的纹理映射级别。
7.如权利要求1所述的方法,其中所述纹理占用空间查询请求进一步包含用于所述查询结果信息的分辨率规范。
8.如权利要求7所述的方法,其中所述查询结果信息包括位图和粗化因子,所述位图被生成以根据所述分辨率规范指示所述纹理占用空间,所述粗化因子被生成以在所述分辨率规范的维度中指示其值为所述位图的每一位的一个或更多个纹理像素的比例尺。
9.如权利要求8所述的方法,其中所述比例尺是基于所述分辨率规范而被计算的,以包含所述维度中的所述纹理占用空间。
10.如权利要求1所述的方法,其中所述查询结果信息包括固定长度的位图,并且所述固定长度的位图的每个位代表所述纹理占用空间所覆盖的一个或更多个纹理像素的区域。
11.如权利要求10所述的方法,其中所述固定长度的位图包括六十四位。
12.如权利要求11所述的方法,其中所述六十四位指示被组织为8×8纹理像素、16×4纹理像素、32×2纹理像素或4×4×4纹理像素之一的一组纹理像素。
13.如权利要求1所述的方法,其中所述查询结果信息包括被计算用于指示纹理映射坐标空间中的所述纹理占用空间的位置的锚点。
14.如权利要求1所述的方法,其中标识包括将纹理采样区域投影到所述纹理映射坐标处的纹理像素空间中,并标记被所投影的纹理采样区域覆盖的每个纹理像素。
15.一种处理单元,被配置为:
从着色器程序接收包括纹理映射坐标的纹理占用空间查询请求,其中所述纹理占用空间查询请求与光栅化的几何形状覆盖的屏幕空间中的像素相关联;
标识包括用于纹理映射过滤操作的纹理占用空间的纹理像素,其对应于所述纹理占用空间查询请求;以及
向所述着色器程序发送包括所述纹理占用空间的查询结果信息,
其中,为了发送,所述处理单元将所述查询结果信息存储在所述着色器程序可访问的存储器电路中。
16.如权利要求15所述的处理单元,其中所述纹理映射坐标包括以下之一:二维、三维、立方体映射中的位置。
17.如权利要求15所述的处理单元,其中所述纹理占用空间查询请求进一步包括以下中的至少一种:在每个所述纹理映射坐标处的梯度;与所述纹理占用空间相对应的详细参数的纹理映射级别;或用于所述查询结果信息的分辨率规范。
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