[发明专利]一种高透明性阻隔膜及其制备方法

说明书

本发明提供一种高透明性阻隔膜及其制备方法，其中，稿透明性阻隔膜包括基膜，于基膜上形成一阻隔层，阻隔层为一混合金属‑硅‑氮氧化合物层，且阻隔层的折射率介于1.5～2.2之间，厚度介于20～60nm之间。本发明的高透明性阻隔膜及其制备方法生产稳定性高，且阻隔性能优异，有效减少水气侵入。

技术领域

本发明涉及保护膜技术领域，尤其涉及一种高透明性阻隔膜及其制备方法。

背景技术

专利号为201580002853.1的中国专利揭示了一种波长转换片材保护膜，该保护膜的O/Si比例控制在1.7～2.0之间，可得到优秀的水蒸气阻隔效果以及良好的光学透射率。但是，由于O/Si比例处于不饱和状态，该状态下O₂含量非常的敏感，些微之O₂波动就会影响镀膜速率，造成厚度的差异；尤其是大幅宽连续性的生产上，易造成宽度、长度均匀性上的偏差，从而导致良品率低。

发明内容

本发明提供一种生产过程稳定，提高良品率，且阻隔性能优异，有效减少水气侵入的高透明性阻隔膜及其制备方法。

本发明采用的技术方案为：一种高透明性阻隔膜，其包括：基膜，于所述基膜上形成一阻隔层，所述阻隔层为混合金属-硅-氮氧化合物层，且所述阻隔层的折射率介于1.5～2.2之间，厚度介于20nm～60nm之间。

进一步地，所述混合金属-硅-氮氧化合物层为铝-硅-氮氧化合物层、钛-硅-氮氧化合物层、锌-硅-氮氧化合物层、或锡-硅-氮氧化合物层。

进一步地，所述阻隔层的折射率优选为介于1.5～1.8之间。

进一步地，所述阻隔层的厚度优选为介于20nm～40nm之间。

进一步地，所述基膜为PET膜、尼龙膜、或OPP膜。

进一步地，所述基膜为PET膜，且厚度介于6um～50um之间。

进一步地，所述阻隔层的透光率为80％以上。

进一步地，所述阻隔层的制备方法为电子束蒸镀法或感应式蒸镀法。

本发明还提供如下技术方案：一种高透明性阻隔膜，其包括：基膜，于所述基膜上形成一阻隔层，所述阻隔层的制备方法为使用电子束蒸镀设备或感应式蒸镀设备将金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物和氧化硅、氮化硅或氮氧化硅进行蒸发，同时导入氮气、氧气进行反应，得到混合金属-硅-氮氧化合物层，且所述阻隔层的折射率介于1.5～2.2之间，厚度介于20nm～60nm之间。

进一步地，所述金属氧化物为氧化铝、氧化钛、氧化锌、或氧化锡。

进一步地，所述金属氮化物为氮化铝、氮化钛、氮化锌、或氮化锡。

进一步地，所述金属氮氧化物为氮氧化铝、氮氧化铝、氮氧化钛、或氮氧化锡。

本发明进一步提供如下技术方案：一种高透明性阻隔膜的制备方法，其包括以下步骤：

提供基膜；

使用电子束蒸镀设备或感应式蒸镀设备将金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物和氧化硅、氮化硅或氮氧化硅进行蒸发，同时导入氮气、氧气进行反应，于基膜上形成混合金属-硅-氮氧化合物的阻隔层，所述阻隔层的折射率介于1.5～2.2之间，厚度介于20nm～60nm之间。

相较于现有技术，本发明的高透明性阻隔膜及其制备方法通过使用电子束蒸镀设备将金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物和氧化硅、氮化硅或氮氧化硅进行蒸发，同时导入氮气、氧气进行反应，得到混合金属-硅-氮氧化合物层作为阻隔层，从而有效提高生产稳定，提高良品率，且阻隔性能优异，有效减少水气侵入。

附图说明