[发明专利]一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置及培养方法

说明书

本发明涉及一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置及培养方法，属于趋磁细菌培养条件控制技术领域。本发明所述控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置包括：气体源(1)、西林瓶(2)和过气管(3)；所述气体源(1)包括氮气源和氧气源；所述过气管(3)的进气口与气体源(1)连接；所述过气管(3)的出气口连接有去除活塞的注射器(4)，去除活塞的注射器(4)的针头用于与西林瓶(2)相连；所述去除活塞的注射器(4)内填充棉花(5)。本发明所述装置简单易操作，不但能满足趋磁细菌生长环境中微需氧的要求，而且还可以保证操作过程中细菌不易受到污染。该装置成本低廉，简单易行。

技术领域

本发明涉及趋磁细菌培养条件控制技术领域，具体涉及一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置及趋磁细菌培养方法，即微需氧趋磁细菌生长环境中氧浓度控制的装置及方法。

背景技术

趋磁细菌是一类可以通过生物矿化在体内生成磁小体纳米颗粒的一类菌群。由于磁小体的独特性质，目前关于磁小体的研究已在多个相关领域成为研究热点，对其的开发和应用潜在着巨大的科研价值和商业价值。但是趋磁细菌是一类对生长环境要求较严格的微需氧细菌，即不同于常规的需氧菌群(O₂浓度约为20％)，又有别于厌氧菌群(不需要O₂)，其生长所需的氧浓度只有1％左右。如果不能精确控制其生长环境中的氧浓度，会直接影响到磁小体的合成。因此，对其生长环境中氧浓度的控制是培养这类细菌需要解决的首要关键问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置及趋磁细菌培养方法。本发明所述装置简单易操作，不但能满足趋磁细菌生长环境中微需氧的要求，而且还可以保证操作过程中细菌不易受到污染。该装置成本低廉，简单易行。

本发明提供了一种控制趋磁细菌培养过程氧浓度的装置，所述装置包括：气体源1、西林瓶2和过气管3；所述气体源1包括氮气源和氧气源；所述过气管3的进气口与气体源1连接；所述过气管3的出气口连接有去除活塞的注射器4，去除活塞的注射器4的针头用于与西林瓶2相连；所述去除活塞的注射器4内填充棉花5。

优选的是，所述过气管3的出气口有一个或多个，每个出气口分别与一个西林瓶2相连。

优选的是，所述过气管3的材质包括橡胶或硅胶。

优选的是，所述过气管3包括一体成型的过气管，或通过三通管或直角弯管连接多段过气管得到的过气管。

优选的是，所述西林瓶2包括瓶身和瓶盖，所述瓶盖包括丁基橡胶瓶塞和铝塑瓶盖。

优选的是，所述装置还包括用于固定过气管3的支架和夹子。

优选的是，所述装置还包括针头延长软管。

本发明还提供了基于上述技术方案所述装置的趋磁细菌的培养方法，包括以下步骤：

1)打开西林瓶的瓶盖，在西林瓶中注入趋磁细菌生长培养基，将所述过气管的进气口与氮气源连接，将所述过气管出气口去除活塞的注射器的针头通入所述趋磁细菌生长培养基中通入氮气20～40min，盖好瓶盖密封西林瓶，得到除去溶解氧气的第一培养基；

2)将所述过气管出气口去除活塞的注射器的针头，插入西林瓶的丁基橡胶塞上，并立即插入另一个干净的针头，向西林瓶内通入氮气20～40min，先拔出所述过气管出气口去除活塞的注射器的针头，西林瓶中的培养基压力降至大气压后再移除另一个针头，高压灭菌，得到排除氧气的已灭菌第二培养基；

3)取另一个西林瓶，将氧气源与过气管连接，将过气管出气口去除活塞的注射器的针头插入该西林瓶，并立即插入另一个干净的针头，通入氧气10～30min，先拔出所述过气管出气口去除活塞的注射器的针头，西林瓶中的培养基压力降至大气压后再移除另一个针头，高压灭菌，得到含纯氧气的西林瓶；