[发明专利]基板蒸镀对位系统以及监控像素位置测量的方法和装置有效
申请号: | 201910446885.0 | 申请日: | 2019-05-27 |
公开(公告)号: | CN110029322B | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 谢飞;吴建鹏;安成国;宋裕斌 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 李弘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板蒸镀 对位 系统 以及 监控 像素 位置 测量 方法 装置 | ||
本发明公开了一种基板蒸镀对位系统以及监控像素位置测量的方法和装置,所述方法,包括:对基板上蒸镀得到的监控像素进行边缘阴影的测量以及位置测量;根据测量的边缘阴影,确定所述监控像素的边缘爬坡距离;根据所述边缘爬坡距离对测量得到的位置数据进行修正。应用本发明能够提升监控像素位置的测量精度,提高确定OLED基板的蒸镀对位补偿量的准确性,从而提高OLED基板的蒸镀良率。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是指一种基板蒸镀对位系统以及监控像素位置测量的方法和装置。
背景技术
OLED显示器件包括阴极层、有机材料功能层以及阳极层等,其中,有机材料功能层一般采用电阻加热法蒸镀法制备。在蒸镀过程中需要通过蒸镀掩膜板对红色像素、绿色像素和蓝色像素分别进行蒸镀。
OLED基板的蒸镀对位过程,由于蒸镀掩膜版制作工艺偏差与OLED基板上的像素孔位置偏差存在差异,因此往往在蒸镀过程需要对OLED基板进行一定的平移或者旋转,使得尽可能多的蒸镀掩膜版像素孔位置与OLED基板上的目标像素的蒸镀位置匹配,以此达到提升蒸镀良率的目的。而OLED基板进行的平移或者旋转的多少,是通过量测OLED基板上的蒸镀像素的位置偏差后经过计算得到的。
但是,实际生产OLED显示器件过程中,蒸镀的用于进行颜色(比如红色、绿色或蓝色)显示的像素通常为层叠状态,并不便于测试人员进行位置测量;因此,现有技术中采用了一种蒸镀掩膜版,该蒸镀掩膜版既开设了用于蒸镀进行红色、绿色或蓝色显示的像素的蒸镀像素孔,还开设了若干用于蒸镀监控像素的监控像素孔。相应地,OLED基板上也设计了与监控像素孔相对应的若干监控像素的位置。
在OLED基板的蒸镀过程,通过蒸镀掩膜版的蒸镀像素孔以及监控像素孔,可以同时在OLED基板上蒸镀出用于进行颜色显示的蒸镀像素,以及监控像素。由于监控像素蒸镀于OLED基板的平坦区域,没有层叠结构,便于测试人员对蒸镀得到的监控像素的进行位置测量;
在OLED基板的蒸镀对位过程,测试人员可以根据蒸镀得到的监控像素的位置与OLED基板上预先设计的监控像素的蒸镀位置进行比较、计算两者偏差;根据计算的偏差,进一步计算OLED基板需要平移或者旋转角度的量,使得尽可能多的蒸镀掩膜版像素孔位置与OLED基板上的目标像素的蒸镀位置匹配,以此达到提升蒸镀良率的目的。
然而,目前对于蒸镀得到的监控像素的位置测量存在不准确的问题,存在大约1~2um的偏差,因此这个偏差影响着OLED基板的蒸镀对位补偿量的确定的准确性。
发明内容
有鉴于此,本发明的目的在于提出一种基板蒸镀对位系统以及监控像素位置测量的方法和装置,能够提升监控像素位置的测量精度,提高确定OLED基板的蒸镀对位补偿量的准确性,从而提高OLED基板的蒸镀良率。
基于上述目的本发明提供一种监控像素位置测量的方法,包括:
对基板上蒸镀得到的监控像素进行边缘阴影的测量以及位置测量;
根据测量的边缘阴影,确定所述监控像素的边缘爬坡距离;
根据所述边缘爬坡距离对测量得到的位置数据进行修正。
其中,所述对基板上蒸镀得到的监控像素进行边缘阴影的测量,具体包括:
基于原子力显微镜AFM对基板上蒸镀得到的监控像素进行边缘阴影的测量。
其中,所述根据测量的边缘阴影,确定所述监控像素的边缘爬坡距离,具体包括:
对于测量得到的监控像素的一个边缘的边缘阴影,可以根据爬坡起始点与爬坡终止点之间的距离确定该边缘的边缘爬坡距离;
其中,所述爬坡起始点与爬坡终止点是根据预先设置的爬坡起始点、爬坡终止点的高度,从所述边缘阴影的测量结果中识别出来的。
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