[发明专利]一种线型光场投射器在审
| 申请号: | 201910444360.3 | 申请日: | 2019-05-27 |
| 公开(公告)号: | CN110187594A | 公开(公告)日: | 2019-08-30 |
| 发明(设计)人: | 黄河;林涛;吴兴坤;楼歆晔;李晴 | 申请(专利权)人: | 上海鲲游光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20 |
| 代理公司: | 济南泉城专利商标事务所 37218 | 代理人: | 张贵宾 |
| 地址: | 200120 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 扩散结构 发散光源 面阵 光线扩散 角度扩散 发光点 投射器 线型光 出射光发散角 透镜阵列结构 水平发散角 出射光线 单独控制 密集排布 面阵光源 平凸透镜 透镜结构 线型分布 焦距 出射光 发散角 扩散片 发散 受限 垂直 扩散 保证 | ||
1.一种线型光场投射器,包括面阵发散光源和光线扩散结构,其特征在于:所述面阵发散光源由密集排布的发光点组成,每个发光点出射光发散角为5~50°;所述光线扩散结构由第一扩散结构和第二扩散结构构成;所述第一扩散结构为透镜阵列结构,第二扩散结构为菲尼尔透镜结构或平凸透镜结构;所述面阵发散光源与第二扩散结构之间的间距等于第二扩散结构的焦距。
2.如权利要求1所述线型光场投射器,其特征在于:所述透镜阵列结构为一维柱透镜阵列结构。
3.如权利要求2所述线型光场投射器,其特征在于:所述一维柱透镜阵列结构的曲率半径为5μm~150μm,重复周期为5μm~300μm。
4.如权利要求1或3所述线型光场投射器,其特征在于:所述第二扩散结构的焦距为1~20mm。
5.如权利要求1-3任一项所述线型光场投射器,其特征在于:所述第二扩散结构为菲尼尔透镜结构。
6.如权利要求1所述线型光场投射器,其特征在于:所述第一扩散结构和第二扩散结构处于同一平板基底的两面。
7.如权利要求6所述线型光场投射器,其特征在于:所述平板基底为K9玻璃。
8.如权利要求1所述线型光场投射器,其特征在于:所述第一扩散结构和第二扩散结构分别处于不同的平板基底表面,第一扩散结构位于第二扩散结构后面或者位于面阵发散光源与第二扩散结构之间。
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