[发明专利]一种Bi2有效

专利信息
申请号: 201910440037.9 申请日: 2019-05-24
公开(公告)号: CN110194481B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 於黄忠;巫祖萍;黄承稳;陈金雲;侯春利;王键鸣 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: C01G9/02 分类号: C01G9/02;C01G29/00;H01L51/48;H01L51/46;H01L51/42;B82Y40/00
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 罗啸秋
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 bi base sub
【权利要求书】:

1.一种Bi2OS2沉积的波纹状ZnO纳米棒阵列的制备方法,其特征在于包括如下制备步骤:

(1)将Zn(COOH)2的乙醇溶液旋涂在ITO基底表面,然后升温至200~300℃进行退火处理,得到波纹状ZnO晶种层;

(2)将Zn(NO3)2·6H2O和六亚甲基四胺溶于水中构成生长液,将步骤(1)所得含有波纹状ZnO晶种层的ITO基底水平浸入到生长液中,在85~95℃温度下生长纳米棒,取出后清洗,干燥,得到负载有ZnO纳米棒阵列的ITO基底;

(3)将Bi2OS2粉末研磨并超声分散于水中,得到Bi2OS2分散液,然后将Bi2OS2分散液滴加到步骤(2)的ZnO纳米棒阵列上进行沉积,无水乙醇冲洗,干燥,得到Bi2OS2沉积的波纹状ZnO纳米棒阵列。

2.根据权利要求1所述的一种Bi2OS2沉积的波纹状ZnO纳米棒阵列的制备方法,其特征在于:步骤(1)中所述升温的速率为5~10℃/min。

3.根据权利要求1所述的一种Bi2OS2沉积的波纹状ZnO纳米棒阵列的制备方法,其特征在于:步骤(1)中所述波纹状ZnO晶种层的厚度为15~25nm。

4.根据权利要求1所述的一种Bi2OS2沉积的波纹状ZnO纳米棒阵列的制备方法,其特征在于:步骤(2)中所述生长纳米棒的时间为45~60min。

5.根据权利要求1所述的一种Bi2OS2沉积的波纹状ZnO纳米棒阵列的制备方法,其特征在于:步骤(2)中所述ZnO纳米棒的长度为50~200nm。

6.根据权利要求1所述的一种Bi2OS2沉积的波纹状ZnO纳米棒阵列的制备方法,其特征在于:步骤(3)中所述Bi2OS2分散液的质量浓度为1%~5%,粒径大小为10~100nm;所述沉积的时间为20~40s。

7.一种Bi2OS2沉积的波纹状ZnO纳米棒阵列,其特征在于:通过权利要求1~6任一项所述的方法制备得到。

8.权利要求7所述的Bi2OS2沉积的波纹状ZnO纳米棒阵列作为电子传输层在有机太阳能电池中的应用。

9.根据权利要求8所述的Bi2OS2沉积的波纹状ZnO纳米棒阵列作为电子传输层在有机太阳能电池中的应用,其特征在于:所述有机太阳能电池包括阴极基底、电子传输层、活性层、空穴传输层以及阳极层,所述电子传输层材料为Bi2OS2沉积的波纹状ZnO纳米棒阵列。

10.根据权利要求9所述的Bi2OS2沉积的波纹状ZnO纳米棒阵列作为电子传输层在有机太阳能电池中的应用,其特征在于:所述阴极基底选自ITO,所述活性层材料为PTB7:PCBM,厚度为150~200nm,所述空穴传输层材料为MoO3,厚度为5~10nm,所述阳极层材料为银,厚度为85~95nm。

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