[发明专利]一种光刻系统多参数协同优化方法在审
| 申请号: | 201910424931.7 | 申请日: | 2019-05-21 |
| 公开(公告)号: | CN110174823A | 公开(公告)日: | 2019-08-27 |
| 发明(设计)人: | 李艳秋;盛乃援;孙义钰 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 代丽;郭德忠 |
| 地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光刻系统 随机误差 多参数 优化 协同 随机梯度法 参数优化 光刻成像 光刻工艺 光刻设备 降低系统 评价函数 搜索方向 系统误差 优化掩模 综合评价 保真度 归一化 计算量 敏感度 成像 收敛 | ||
1.一种光刻系统多参数协同优化方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1、确定待优化的n项光刻系统参数并给定n项光刻系统参数初始值,记为{xn}(0);
根据光刻技术节点和掩模图形结构类型,确定所述n项光刻系统参数的初始变化范围;设定迭代截止条件:设置迭代次数为k,k=1,2,3…kmax,初始时k=1,kmax为最大迭代次数;设置优化精度判定误差为e;第k次迭代后的n项光刻系统参数记为{xn}(k);
根据系统性能,获得光刻系统误差E的变化范围;
建立包含光刻系统误差E的综合评价函数
其中,Fi=ε{Pi(xn;E)},Pi(xn;E)代表第i个指标的评价函数,i=1,2,3…m,m为指标的数量,ε{Pi(xn;E)}代表评价函数在系统误差E变化范围内的数学期望算符;ωi为第i个指标对应的权重系数;
步骤2、将待优化的n项光刻系统参数{xn}(k)进行归一化处理,得到归一化待优化光刻系统参数归一化差值
步骤3、根据归一化待优化光刻系统参数、归一化差值和包含光刻系统误差E的综合评价函数,通过差商计算得到第k次迭代后的待优化光刻系统参数的梯度方向:
首次迭代的搜索方向为第k次迭代的搜索方向为
步骤4、对||d(k)||进行判断,若||d(k)||≤e,执行步骤8,否则执行步骤5;
步骤5、针对第k次迭代的待优化光刻系统参数根据其对应的梯度方向,利用随机梯度下降法更新待优化光刻系统参数的变化范围;
步骤6、针对第k次迭代的待优化光刻系统参数在其更新后的变化范围内,沿着梯度方向d(k)进行一维搜索,得到该方向评价函数的最小值Fmin,获取最小值Fmin下的光刻系统参数结果,并将该参数结果作为下一次迭代点;
步骤7、令k=k+1,对k进行判定,若k≤kmax,则执行步骤2,否则执行步骤8;
步骤8、将当前光刻系统参数结果作为最终优化结果输出,完成多参数协同优化。
2.如权利要求1所述的一种光刻系统多参数协同优化方法,其特征在于,所述步骤5中,利用随机梯度下降法更新待优化光刻系统参数的变化范围的具体步骤如下:
定义中间变量和
取遍组合中的所有参量,完成待优化光刻系统参数的变化范围更新;其中,针对组合中的第p个参量(xp)k,更新步骤如下:
判断(dp)k的正负:
当(dp)k>0时,则令中间变量中间变量
当(dp)k<0时,则令中间变量中间变量
当(dp)k=0时,则令中间变量中间变量
若(dp)k=0,则令
若(dp)k≠0,则(up)k=(xp)k+gk·(dp)k,(vp)k=(xp)k+hk·(dp)k;
其中(up)k和(vp)k为优化参数在第k轮迭代时的变化范围对应的左右边界,gk为中绝对值最小项,hk为中绝对值最小项。
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