[发明专利]一种颜色介质膜制备方法和制备设备

权利要求书

1.一种颜色介质膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、通过磁控溅射法镀制高折射率膜层，在电磁场作用下，高折射率材料离化成离子状态，和溅射腔体中的O₂发生化学反应，沉积到基板表面，得到高折射率膜层；

步骤2、通过辊涂法镀制低折射率膜层，低折射率材料通过加热固化处理，实现和基板结合，得到低折射率膜层；

步骤3、按照步骤1高折射率膜层镀制方法和步骤2低折射率膜层镀制方法进行层叠交替镀制，完成颜色介质膜制备。

2.一种颜色介质膜制备设备，其特征在于，包括磁控溅射装置(1)、第一转移架(2)、辊涂装置(3)和第二转移架(4)，所述磁控溅射装置(1)利用高折射率材料镀制高折射率膜层，所述第一转移架(2)用于放置镀制好高折射率膜层的产品，所述辊涂装置(3)利用低折射率材料基于镀制好高折射率膜层的产品镀制低折射率膜层，所述第二转移架(4)用于放置镀制好低折射率膜层的产品，所述磁控溅射装置(1)、第一转移架(2)、辊涂装置(3)和第二转移架(4)依次循环工作，完成多层高折射率膜层和低折射率膜层镀制。

3.根据权利要求2所述的颜色介质膜制备设备，其特征在于，所述磁控溅射装置(1)包括进片室(21)、进片缓冲室(22)、溅射室(23)、出片缓冲室(24)、出片室(25)，基板从进片室(21)进入磁控溅射装置(1)，传输到进片缓冲室(22)，再进入溅射室(23)，在溅射里里完成高折射率膜层的镀制，再经过出片缓冲室(24)、出片室(25)输出。

4.根据权利要求2所述的颜色介质膜制备设备，其特征在于，所述辊涂装置(3)包括预热段(31)、镀膜段(32)、固化段(33)，镀制好高折射率膜层的产品进入预热段(31)进行预热，再进入镀膜段(32)进行镀膜，再经过固化段(33)进行烘干固化，形成低折射率膜层。

5.根据权利要求4所述的颜色介质膜制备设备，其特征在于，所述镀膜段(32)置于十万级洁净室中，用于低折射率膜层镀制，包括胶辊单元和粘度控制单元，所述胶辊单元包括涂布胶辊(41)、厚度控制胶辊(42)、光电胶辊(43)，所述光电胶辊(43)与涂布胶辊(41)构成可存放镀膜液的凹槽；所述厚度控制胶辊(42)的与涂布胶辊(41)之间的间距可调，用以控制涂布胶辊(41)上镀膜液的多少，从而控制膜层的厚度；

所述粘度控制单元包括粘度探测器(51)、控制器(52)、自动加液器(53)、搅拌器(54)；所述粘度探测器(51)用于即时监控镀膜液的粘度，当粘度变化超出设定的区间时，所述粘度探测器(51)发送信号到所述控制器(52)，控制所述自动加液器(53)添加适量的溶剂，稀释溶液，加液后，所述搅拌器(54)快速进行搅拌。

6.根据权利要求2所述的颜色介质膜制备设备，其特征在于，所述低折射率材料包括SiO₂。

7.根据权利要求2所述的颜色介质膜制备设备，其特征在于，所述高折射率材料包括Nb、Ta。