[发明专利]用于聚焦的方法、电子装置和计算机可读介质有效
申请号: | 201910418175.7 | 申请日: | 2019-05-20 |
公开(公告)号: | CN110514589B | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | M·皮尔里卡;M·瓦蒂艾南 | 申请(专利权)人: | 冠迪姆有限公司 |
主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01;H04N5/232 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 聚焦 方法 电子 装置 计算机 可读 介质 | ||
1.一种用于聚焦的方法,包括:
接收第一视场的第一图像堆栈,所述第一图像堆栈包括从所述第一视场利用不同焦点而被捕获的图像;
从所述第一图像堆栈确定焦点深度的第一空间分布,所述第一视场中的不同区域在所述焦点深度的第一空间分布中被聚焦,所述焦点深度的第一空间分布是用以获得与所述第一图像堆栈相对应的所述不同焦点的光学配置参数的空间分布;
基于所述焦点深度的第一空间分布,确定所述第一视场中的第一局部样品厚度和第一样品倾斜;
接收第三视场的第三图像堆栈,所述第三图像堆栈包括从所述第三视场利用不同焦点而被捕获的图像,并且其中所述第一视场和所述第三视场是针对第二视场的相邻视场;
从所述第三图像堆栈确定焦点深度的第三空间分布,所述第三视场中的不同区域在所述焦点深度的第三空间分布中被聚焦,所述焦点深度的第三空间分布是用以获得与所述第三图像堆栈相对应的所述不同焦点的光学配置参数的空间分布;
基于所述焦点深度的第三空间分布,确定第三局部样品厚度和第三样品倾斜;以及
基于所述第一局部样品厚度、所述第一样品倾斜、所述第三局部样品厚度和所述第三样品倾斜,估计用于从所述第二视场捕获第二图像堆栈的焦点设置。
2.根据权利要求1所述的方法,其中确定所述第一局部样品厚度和所述第一样品倾斜包括:
从焦点深度的所述空间分布消除由特定于装置的测量导致的影响。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述特定于装置的测量包括预定义场曲率和预定义光轴倾斜中的一个或多个。
4.根据权利要求1所述的方法,还包括:
基于所述第一局部样品厚度和所述第一样品倾斜,估计第一焦点设置;
基于所述第三局部样品厚度和所述第三样品倾斜,估计第三焦点设置;
对所述第一焦点设置和所述第三焦点设置求平均,以得到用于从所述第二视场捕获所述第二图像堆栈的所述焦点设置。
5.根据权利要求4所述的方法,还包括:
基于所述第一视场与所述第二视场之间的距离,分配针对所述第一焦点设置的权重。
6.根据权利要求4所述的方法,还包括:
基于所述焦点深度的第一空间分布的平坦度,分配针对所述第一焦点设置的权重。
7.一种用于聚焦的方法,包括:
接收第一视场的第一图像堆栈,所述第一图像堆栈包括从所述第一视场利用不同焦点而被捕获的图像;
从所述第一图像堆栈确定焦点深度的第一空间分布,所述第一视场中的不同区域在所述焦点深度的第一空间分布中被聚焦,所述焦点深度的第一空间分布是用以获得与所述第一图像堆栈相对应的所述不同焦点的光学配置参数的空间分布;
基于所述焦点深度的第一空间分布,确定所述第一视场中的第一局部样品厚度和第一样品倾斜,
其中确定所述第一局部样品厚度和所述第一样品倾斜包括:
从焦点深度模型减去涉及预定义场曲率和/或预定义光轴倾斜的项;
通过将线性估计方式应用于所述焦点深度模型,确定限定所述第一局部样品厚度和所述第一样品倾斜的系数;并且
其中所述焦点深度模型包括将图像像素坐标和台控制坐标对变换成台坐标的坐标函数,并且所述方法还包括:
在根据所述台控制坐标的位置处,捕获位于校准载玻片上根据所述台坐标的位置处的已知目标的图像;
根据来自所述目标的所述图像的图像像素坐标,测量图像像素位置;
形成方程对,所述方程对对从所述图像像素坐标和所述台控制坐标对到所述台坐标的变换建模;
重复所述捕获、所述测量和所述形成至少五次,其中所述已知目标每次位于不同位置处;以及
通过将线性估计方式应用于所述方程对,确定所述变换的系数;并且所述方法还包括:
基于所述第一局部样品厚度和所述第一样品倾斜,估计用于从第二视场捕获第二图像堆栈的焦点设置。
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